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具有中空结构的PtSnBiPdIn高熵合金纳米材料的制备及其在电催化氧化中的应用 

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申请/专利权人:安徽大学

摘要:本发明公开了一种具有中空结构的PtSnBiPdIn高熵合金纳米材料的制备及其在电催化氧化中的应用。本发明采用简单的溶剂热法,制备了具有中空结构的高熵合金纳米催化剂,所得催化剂的尺寸在5nm左右且具有明显的中空结构。此外,由于中空结构的存在,可暴露出更多的活性位点,提供更大的比表面积,从而提高了Pt基催化剂的电催化性能。实施合金化策略被广泛认为是提高铂Pt利用率、降低成本和实现高催化活性的有效方法。将Pt与其它金属进行合金化,可以减少Pt的使用量从而降低生产成本,相比于PtC和PdC催化剂,本发明的催化剂对乙二醇氧化反应表现出更高的催化性能。

主权项:1.一种具有中空结构的PtSnBiPdIn高熵合金纳米材料的制备方法,包括如下步骤:步骤1:将合金前驱体与还原剂、表面活性剂置于反应器中,加入溶剂1-十八烯和胺类溶液,超声溶解形成均匀分散的混合溶液;步骤2:将步骤1获得的混合溶液加热至200℃~220℃反应1-3小时;反应结束后自然冷却至室温,用乙醇和环己烷混合溶液洗涤,离心,得到中空结构的PtSnBiPdInHEANPs纳米材料。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安徽大学 具有中空结构的PtSnBiPdIn高熵合金纳米材料的制备及其在电催化氧化中的应用

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