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申请/专利权人：SK恩普士有限公司
摘要：本发明涉及用于制造空白掩模的装置及制造空白掩模的方法。公开了一种用于制造空白掩模的装置，该装置包括：腔室，该腔室用于容纳光学基板；以及卡盘，该卡盘放置在该腔室中，是可旋转的，其中，该卡盘包括：支撑部，该支撑部设置在该光学基板的下方并且被配置成支撑该光学基板；以及引导部，该引导部设置在该光学基板的一侧并且连接到该支撑部，其中，该引导部与该光学基板的侧表面之间的间隔大于0mm且小于1mm。
主权项：1.一种用于制造空白掩模的装置，所述装置包括：腔室，所述腔室用于容纳光学基板；以及卡盘，所述卡盘放置在所述腔室中，是可旋转的，其中，所述卡盘包括：支撑部，所述支撑部设置在所述光学基板的下方并且被配置成支撑所述光学基板；以及引导部，所述引导部设置在所述光学基板的一侧并且连接到所述支撑部，其中，所述引导部与所述光学基板的侧表面之间的间隔大于0mm且小于1mm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： SK恩普士有限公司 用于制造空白掩模的装置及制造空白掩模的方法
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