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申请/专利权人：SK恩普士有限公司
摘要：本发明公开了一种制造空白掩模的方法和空白掩膜。该方法包括：在透光基板上形成遮光膜；以及用清洁液清洁该遮光膜，其中，在清洁时，该遮光膜的厚度变化小于5nm。
主权项：1.一种制造空白掩模的方法，所述方法包括：在透光基板上形成遮光膜；以及用清洁液清洁所述遮光膜，其中，在清洁中，所述遮光膜的厚度变化小于15nm。
全文数据：
权利要求：
百度查询： SK恩普士有限公司 空白掩模及其制造方法
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