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申请/专利权人：上海新微技术研发中心有限公司
摘要：本发明提供一种镀膜掩膜版的制备方法，包括如下步骤：步骤一：准备衬底，在衬底的一面沉积第一介质层；步骤二：在衬底另一面，沉积一层第二介质层，在第二介质层上刻蚀出窗口；步骤三：刻蚀衬底，直至第二介质层上打开的窗口形成贯穿衬底的空腔，并露出第一介质层后，去除第二介质层；步骤四：在衬底上的空腔内表面以及所述空腔底部的第一介质层内表面镀第一镀膜结构层；步骤五：去除第一介质层，漏出衬底以及位于所述空腔底部的第一镀膜结构层，并在第一镀膜结构层的外表面镀第二镀膜结构层，在所述第二镀膜结构层的表面刻蚀镀膜结构层形成镀膜口，所述镀膜口与空腔联通。本发明的镀膜掩膜版具有镀膜效率高的优点。
主权项：1.一种镀膜掩膜版的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一：准备硅衬底，在衬底的一面沉积第一介质层；步骤二：在衬底无第一介质层的一面，沉积一层第二介质层，涂光刻胶，并光刻、显影出窗口形状，在第二介质层上刻蚀出窗口；步骤三：刻蚀衬底，直至第二介质层上打开的窗口形成贯穿衬底的空腔，并露出第一介质层后，去除第二介质层；步骤四：将衬底的窗口朝上放入反应腔内，在衬底上的空腔内表面以及所述空腔底部的第一介质层内表面镀第一镀膜结构层；步骤五：去除第一介质层，漏出衬底以及位于所述空腔底部的第一镀膜结构层，并在第一镀膜结构层的外表面镀第二镀膜结构层，在所述第二镀膜结构层的表面旋涂光刻胶，光刻出镀膜口区域，刻蚀镀膜结构层形成镀膜口，所述镀膜口与空腔联通。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海新微技术研发中心有限公司 一种镀膜掩膜版、制备方法及薄膜镀膜方法
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