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基于原子力显微镜的图形化装置及方法 

申请/专利权人:上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司

申请日:2023-03-09

公开(公告)日:2024-07-05

公开(公告)号:CN116216703B

主分类号:C01B32/184

分类号:C01B32/184;B82Y40/00;H05K3/02;G01Q60/24

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.07.05#授权;2023.06.23#实质审查的生效;2023.06.06#公开

摘要:本发明提供了一种基于原子力显微镜的图形化装置及方法,用于制备石墨烯图案,所述图形化方法包括:提供氧化石墨烯层;提供原子力显微镜及紫外激光器,原子力显微镜具有探针,探针的尖端设有二氧化钛层;探针上的二氧化钛层与紫外激光器发射的紫外光束同时作用于同一区域的氧化石墨烯层,以使区域的氧化石墨烯还原为石墨烯,并以此形成石墨烯图案。本发明中采用二氧化钛紫外光催化作用对氧化石墨烯进行高效还原,利用二氧化钛材料成本低且制备简单的特点,可将设有二氧化钛层的探针作为耗材,应用于由氧化石墨烯层制备石墨烯图案的工业量产,具有较佳的实用价值。

主权项:1.一种基于原子力显微镜的图形化方法,用于制备石墨烯图案,其特征在于,包括:提供氧化石墨烯层;提供原子力显微镜及紫外激光器,所述原子力显微镜具有探针,所述探针的尖端设有二氧化钛层;所述探针尖端上的二氧化钛层在所述氧化石墨烯层上形成触点,所述紫外激光器向所述氧化石墨烯层上的触点发射紫外激光并在所述氧化石墨烯层上形成光斑,所述触点与所述光斑具有重合区域,使所述重合区域的氧化石墨烯还原为石墨烯,并使所述氧化石墨烯层与所述触点和所述光斑相对移动,以此形成所述石墨烯图案。

全文数据:

权利要求:

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