申请/专利权人：三星显示有限公司

申请日：2018-12-04

公开（公告）日：2024-07-05

公开（公告）号：CN109872961B

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67

优先权：["20171204 KR 10-2017-0165411"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.07.05#授权;2020.12.15#实质审查的生效;2019.06.11#公开

摘要：本发明公开一种激光晶化装置。根据本发明的实施例的激光晶化装置包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并根据偏振状态将入射的光透射或反射，从而将所述输入光分支为沿第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向行进的光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中沿所述第一方向行进的光反射而使其再次朝向所述偏振分束器，从而形成环路。

主权项：1.一种激光晶化装置，包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将从所述激光发生器接收的所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并根据偏振状态将入射的光透射或反射，从而将所述输入光分支为沿第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向行进的光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中沿所述第一方向行进的光反射而使其再次朝向所述偏振分束器，从而形成环路；第一补偿部件，在所述光路上布置于所述偏振分束器与所述工作台之间而使入射的光折射，以补偿被所述偏振分束器折射的光的路径，被所述偏振分束器分支后的光中沿所述第二方向行进的光朝向所述工作台照射。

全文数据：激光晶化装置技术领域本发明涉及一种激光晶化装置，尤其涉及一种增加激光束的半宽度的激光晶化装置。背景技术通常，诸如显示装置等电气电子元件通过薄膜晶体管驱动。为了将具有高迁移率等优点的结晶硅用作薄膜晶体管的活性层，需要进行使非晶多晶薄膜，例如非晶硅薄膜晶化的过程。为了将非晶硅薄膜晶化成结晶硅薄膜，应当以恒定量的能量照射激光。发明内容本发明的目的在于提供一种增加激光束的半宽度的激光晶化装置。根据本发明的实施例的激光晶化装置，包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将从所述激光发生器接收的所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并根据偏振状态将入射的光透射或反射，从而将所述输入光分支为沿第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向行进的光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中沿所述第一方向行进的光反射而使其再次朝向所述偏振分束器，从而形成环路，并且，被所述偏振分束器分支后的光中沿所述第二方向行进的光朝向所述工作台照射。通过所述偏振分束器而沿所述第一方向分支的光第1至第n次通过所述环路，并且第n次通过所述环路后沿所述第二方向分支的光与第n-1次通过环路后沿所述第二方向分支的光混合，且所述n为2以上的自然数。混合后的所述光具有一个脉冲形态，并且混合后的所述光的半宽度大于所述输入光的半宽度。从所述偏振分束器向多个镜子提供的光量随着所述环路次数的增加而减小，当所述环路次数为4以上时，混合后的所述输出光的光量是所述输入光的光量的90％以上。所述第一偏振旋转器包括半波片。所述激光晶化装置还包括：分束器，在所述光路上布置于所述光学系统与所述工作台之间；以及监测部，从所述分束器接收分支后的光中的一部分而对混合后的所述光的强度及半宽度进行测定。所述第一偏振旋转器还包括使所述半波片旋转的旋转部件。所述监测部包括控制所述旋转部件的控制部。所述输入光是固体激光。所述激光晶化装置还包括：第二偏振旋转器，在所述光路上布置于所述光学系统的最后方，进而改变入射的光的偏振状态，并且，所述输入光的偏振状态与所述输出光的偏振状态相同。所述入射光是准分子激光。所述激光晶化装置还包括：偏振片，布置于所述激光发生器与所述光学系统之间，并使所述输入光线偏振。所述光学系统还包括：第一补偿部件，在所述光路上布置于所述偏振分束器与所述工作台之间而折射入射的光。所述光学系统还包括：第二补偿部件，布置在所述多个镜子之间或所述多个镜子与所述偏振分束器之间而折射入射的光。所述环路的长度为约1m以上10m以下。所述偏振分束器对于一偏振状态而言具有约20％以上且80％以下的反射率。根据本发明的实施例的激光晶化装置，包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将从所述激光发生器接收的所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并将入射的光分支为第n环路光及第n脉冲光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中的所述第n环路光反射，进而朝向所述偏振分束器再入射，并且，所述第n脉冲光朝向所述工作台照射，通过所述多个镜子向所述偏振分束器再入射的所述第n环路光通过所述偏振分束器再次分支为第n+1环路光及第n+1脉冲光，其中所述n为自然数。所述第n+1脉冲光的光路比所述第n脉冲光的光路长。所述第一脉冲光至第n+1脉冲光相互混合而具有一个脉冲形态，并且混合后的所述光的半宽度大于所述输入光的半宽度。根据本发明的实施例的激光晶化装置，包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将从所述激光发生器接收的所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并根据偏振状态将入射的光透射或反射，从而将所述输入光分支为两个光，并朝向所述工作台提供分支后的所述光中的一个光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中剩余的一个光反射而使其再入射至所述偏振分束器，并且随着再入射至所述偏振分束器的次数的增加，所述输出光的半宽度增加。根据本发明的实施例，能够增加激光束的半宽度。附图说明图1是根据本发明的实施例的激光晶化装置的示意性模式图。图2是图1所示的光学系统的示意性模式图。图3是示出各个脉冲光的基于时间的强度的曲线图。图4是比较通过环路的光与未通过环路的光的基于时间的强度的曲线图。图5是示出基于针对一偏振状态的光的偏振分束器的透射率的半宽度的曲线图。图6是根据本发明的另一实施例的激光晶化装置的示意性模式图。图7是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。图8是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。图9是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。图10是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。符号说明1000：激光晶化装置10：被加工物100：激光发生器200：光学系统300：工作台PR1：第一偏振旋转器PR2：第二偏振旋转器PBS：偏振分束器PL：调制光ML：加工光DA：脉冲光LL：环路光IL：输入光OL：输出光CPS：补偿部件MT：监测部具体实施方式若参照附图以及详细地描述的实施例，则本发明的优点、特征以及实现方法将会变得明确。然而本发明并不局限于以下公开的实施例，其可以体现为彼此不同的多样的形态，只不过本实施例是为了使本发明的公开变得完整，并对在本发明所属的技术领域中具有通常的知识的人员完整地告知本发明的范围而提供的，本发明仅仅由权利要求记载的范围来得到定义。贯穿整个说明书，同一个附图标号指代同一个构成要素。当描述为元件elements或层位于另一元件或层的“上面on”或“上方on”时，其不仅包括位于另一元件或层的紧邻上面的情形，还包括中间夹设有其他层或其他元件的情形。相反，当描述为元件位于另一部分的“直接上面directlyon”或“紧邻上面”的情况表示中间没有夹设其他元件或层。“和或”包括提及元素的每一个及一个以上的全部组合。空间上的相对术语“下面below”、“在……之下beneath”、“下部lower”、“在……之上above”、“上部upper”等如图所示地可以为了方便地描述一个元件或构成要素与另一元件或构成要素之间的相关关系而使用。空间上的相对术语除了图中所示的方向之外，在使用或操作时还应当被理解为包括元件的彼此不同的方向的术语。贯穿整个说明书，同一个附图标号指代同一个构成要素。虽然第一、第二等术语为了说明多样的元件、构成要素和或部分而使用，但是这些元件、构成要素和或部分显然并不局限于上述的术语。上述的术语只是为了将一个元件、构成要素和或部分区别于另一元件、构成要素和或部分而使用。因此，在本发明的技术思想范围内，以下提及的第一元件、第一构成要素和或第一部分也可以为第二元件、第二构成要素和或第二部分。参照作为本发明的理想的示意性平面图及剖面图对本说明书中描述的实施例进行说明。因此，示意图的形态可以根据制造技术和或允许误差等而变形。因此，本发明的实施例不限于图示的特定形态，还包括根据制造工序产生的形态的变化。因此，附图中举例说明的区域具有示意性属性，并且附图中举例说明的区域的形状旨在举例说明元件的区域的特定形态，而并不旨在限制本发明的范围。以下，参照附图对本发明的优选实施例进行更详细的说明。图1是根据本发明的实施例的激光晶化装置的示意性模式图。参照图1，根据本发明的实施例的激光晶化装置包括激光发生器100、光学系统200及工作台300。激光发生器100发生输入光IL。在本实施例中，输入光IL可以是固体激光SolidLaser。即，由激光发生器100发生的输入光IL可以是线偏振LinearPolarization状态的光。例如，输入光IL包括P偏振状态的光和S偏振状态的光。在图1及图2中虽然仅图示了一个激光发生器100，但是本发明的激光发生器100的数量并不限于此。在本发明的另一实施例中可以提供多个激光发生器100。光学系统200将从激光发生器100接收的输入光IL转换为至少一个的输出光OL。光学系统200在光路上布置于工作台300与激光发生器100之间，进而向工作台300方向照射至少一个的输出光OL。在本实施例中对一个光学系统200的情况进行了说明，然而本发明并不限定于此。根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000还可以包括后文所述的起到独立于光学系统200的功能的多个光学系统未图示。以下，在图2中对光学系统200进行更详细的描述。工作台300支撑被加工物10。工作台300提供平坦面。虽然在附图中未图示，但是根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000还可以包括布置于工作台300的下部或侧面而使工作台300移动的工作台移动部未图示。从光学系统200射出的输出光OL可以照射在安装于工作台300上的被加工物10。在本实施例中，输出光OL能够使形成于被加工物10的上表面的薄膜晶化。具体而言，被加工物10可以包括非晶硅层AmorphousSiliconLayer。被加工物10可以通过低压化学蒸镀法、常压化学蒸镀法、PECVD法plasmaenhancedchemicalvapordeposition；等离子体增强化学气相蒸镀法、溅射法、真空蒸镀法vacuumevaporation等方法来形成。根据本实施例的激光晶化装置1000通过向被加工物10照射输出光OL，从而能够使非晶硅层晶化为多晶硅层Poly-crystalSiliconLayer。虽然在附图中未图示，但是根据本发明的实施例的激光晶化装置1000还可以包括在光路上布置于光学系统200与工作台300之间的至少一个方向转换部件未图示。例如，方向转换部件未图示可以是振镜扫描器GalvanometerScanner或镜子Mirror。方向转换部件未图示将输出光OL的方向变更为使从光学系统200提供的输出光OL朝向工作台300。图2是图1所示的光学系统的示意性模式图。参照图2，光学系统200包括第一偏振旋转器PR1、偏振分束器PBS及多个镜子M1～M4。第一偏振旋转器PR1改变输入光IL的偏振状态。即，第一偏振旋转器PR1能够改变输入光IL所具有的P偏振状态的光及S偏振状态的光的比例。具体而言，第一偏振旋转器PR1将输入光IL的一个分量的相位延迟最大λ2。即，根据本实施例的第一偏振旋转器PR1可以包括半波片。输入光IL可以通过第一偏振旋转器PR1转换为调制光PL。虽然在附图中未图示，但是根据本发明的实施例的第一偏振旋转器PR1还可以包括使半波片的光轴旋转的旋转部件未图示。旋转部件未图示能够从外部接收电信号而调节光轴旋转的角度。通过旋转部件未图示能够将调制光PL转换为用户期望的偏振状态。调制光PL向偏振分束器PBS入射。偏振分束器PBS在光路上布置于第一偏振旋转器PR1的后方。偏振分束器PBS根据入射的光的偏振状态使一部分透射，并将剩余的一部分反射。本发明的偏振分束器PBS对于一偏振状态而言可以具有约20％以上80％以下的透射率或反射率。在本实施例中，图示了对于一偏振状态而言具有约70％以上80％以下的反射率的偏振分束器PBS。在本实施例中，偏振分束器PBS布置为与入射的光行进的方向具有预定的角度。因此，向偏振分束器PBS入射的光能够分支为向两个方向行进。在本实施例中，在偏振分束器PBS分支的光可以分支为朝向多个镜子M1～M4中的某一个的第一方向以及朝向工作台的第二方向。例如，在本实施例中，所述预定的角度可以是约45度或者约135度。即，第一方向及第二方向可以垂直。然而，本发明中布置偏振分束器PBS的所述预定的角度的大小不受特别的限制。多个镜子M1～M4在光路上布置于第一偏振旋转器PR1的后方。根据本实施例的多个镜子M1～M4包括第一镜子至第四镜子M1～M4。然而，本发明中镜子的数量不受特别的限制。第一镜子至第四镜子M1～M4将从偏振分束器PBS分支的光中的一部分光反射而向偏振分束器PBS再入射。向偏振分束器PBS再入射的光被偏振分束器PBS再一次分支。即，第一镜子至第四镜子M1～M4通过从偏振分束器PBS接收光，并将接收的光反射而再次提供至偏振分束器PBS，从而可以形成环路LP。即，向所述环路LP入射的光的光路可以具有闭曲线的形态。如图2所示，入射至偏振分束器PBS的调制光PL中透过偏振分束器PBS的光被定义为第一脉冲光DA1。第一脉冲光DA1沿作为朝向工作台300的方向的第二方向行进。入射至偏振分束器PBS的调制光PL中被偏振分束器PBS反射的光被定义为第一环路光LL1。第一环路光LL1沿第一方向行进而入射至第一镜子M1。入射至第一镜子M1的第一环路光LL1依次被第一镜子至第四镜子M1～M4反射而通过第一环路LP1。随着第一环路光LL1通过第一环路LP1，从而光路被增加。光路增加的第一环路光LL1再次入射至偏振分束器PBS，进而再次分支为第一方向及第二方向。再次入射至偏振分束器PBS的第一环路光LL1中被偏振分束器PBS反射的光被定义为第二脉冲光DA2。第二脉冲光DA2向作为朝向工作台300的方向的第二方向行进。第二脉冲光DA2的光路比第一脉冲光DA1的光路长第一环路LP1的长度。第二脉冲光DA2与第一脉冲光DA1隔着与第一环路LP1的长度对应的时间差而混合。入射至偏振分束器PBS的第一环路光LL1中透过偏振分束器PBS的光被定义为第二环路光LL2。第二环路光LL2沿第一方向行进而入射至第一镜子M1。入射至第一镜子M1的第二环路光LL2通过第二环路LP2。第二环路LP2形成的光路与第一环路LP1形成的光路相同。随着第二环路光LL2通过第二环路LP2，从而光路被增加。光路增加的第二环路光LL2再次入射至偏振分束器PBS，进而再次分支为第一方向及第二方向。再次入射至偏振分束器PBS的第二环路光LL2中在偏振分束器PBS被反射的第三脉冲光DA3沿朝向工作台300的第二方向行进。第三脉冲光DA3的光路比第二脉冲光DA2的光路长第二环路LP2的长度。第三脉冲光DA3与第二脉冲光DA2隔着与第二环路LP2的长度对应的时间差而混合。再次入射至偏振分束器PBS的第二环路光LL2中透过偏振分束器PBS的第三环路光LL3沿第一方向行进而通过第三环路LP3。随着通过第三环路LP3，从而第三环路光LL3的光路被增加。光路增加的第三环路光LL3再次入射至偏振分束器PBS，进而再次分支为第一方向及第二方向。这样，通过偏振分束器PBS而沿第一方向分支的环路光LL，第一至第n次n为自然数通过环路LP。即，通过第n环路LP而入射至偏振分束器PBS的第n环路光被再次分支为第n+1脉冲光及第n+1环路光。在图2中图示了向第一方向分支的环路光LL1～LL4第四次通过环路LP1～LP4的情况n＝4，然而本发明中n的大小不受特别的限制。并且，在图2中省略了第五环路光的图示。脉冲光DA相互混合而形成加工光ML。加工光ML具有一个脉冲形态。根据本实施例，加工光ML以输出光OLOL1、OL2、OL3、OL4、OL5的形态照射于被加工物10。图3是示出各个脉冲光的基于时间的强度的曲线图。进一步参照图3，通过根据本实施例的环路LP的光的光路可以借助多个镜子M1～M4而得到增加。在n大于1的情况下，通过第n-1环路的第n脉冲光的光路比通过第n-2环路的第n-1脉冲光的光路长。通过第0环路的光被定义为第一脉冲光DA1，即未通过环路LP的光。在本实施例中，一个环路LP形成的光路可以为约1m以上10m以下。并且，根据本实施例，随着被偏振分束器PBS分支的次数n的大小增加，被偏振分束器PBS分支的第n脉冲光DA的光量减小。例如，在n大于1的情况下，第二脉冲光的光量可以为第一脉冲光的光量的约20％至30％，第n+1脉冲光的光量可以为第n脉冲光的光量的约70％至80％。根据本发明的实施例，当n为4以上时，输出光OL的光量可以是输入光IL的光量的约90％以上。图4是比较通过环路的光与未通过环路的光的基于时间的强度的曲线图。进一步参照图4，通过偏振分束器PBS而沿第二方向分支的第一脉冲光至第n+1脉冲光DA向工作台300行进。第一脉冲光至第n+1脉冲光DA可以彼此隔着时间差而混合。混合后的光形成加工光ML。根据本实施例，加工光ML以输出光OL的形态照射于被加工物10。相比于第n脉冲光，通过第n环路LP之后在偏振分束器PBS被分支而朝向工作台300的第n+1脉冲光照射于被加工物10的时间可以得到延迟。因此，相对于输入光IL而言，加工光ML能够增加照射于工作台300的照射时间。具体而言，根据本发明的实施例，入射至偏振分束器PBS的输入光IL的至少一部分的光路能够通过多个镜子M1～M4形成的环路LP而增加。即，第一至第n次通过环路LP的光的路径能够增加相当于各环路LP长度的一至n倍。因此，第一至第n次通过环路LP的光最终混合后的加工光ML相比于输入光IL，最大强度减小，并且能够增加半宽度FWHM：FullWidthatHalfMaximum增加。即，输出光OL的半宽度W2可以大于未通过环路LP的输入光IL的半宽度W1。图5是示出基于针对一偏振状态的光的基于偏振分束器的透射率的半宽度的曲线图。如图5所示，根据本发明的实施例，调节针对一偏振状态的光的偏振分束器PBS的透射率及反射率，从而能够形成具有用户期望的半宽度的输出光OL。例如，在本实施例中可以提供透射率为约20％至30％，反射率为约70％至80％的偏振分束器PBS。其结果，根据本发明的实施例，将入射至光学系统200的光分支多次而延迟照射时间之后，再次进行混合，据此能够增加输出光OL的半宽度。即，通过增加对被加工物10的照射时间，从而能够易于晶化被加工物10。并且，根据本发明的实施例，利用第一偏振旋转器PR1及偏振分束器PBS，从而能够易于改变根据偏振状态入射的光量。即，能够易于改变输出光OL的半宽度。图6是根据本发明的另一实施例的激光晶化装置的示意性模式图。为了便于说明，以与本发明的一实施例不同点为主进行说明，省略的部分遵循本发明的一实施例。并且，针对上文已说明的构成要素，使用相同的附图符号，并省略对所述构成要素的重复说明。参照图6，由根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000-1的激光发生器100发生的输入光IL可以是非偏振状态的光。例如，根据本实施例的输入光IL可以是准分子激光EximerLaser。并且，根据本实施例的激光晶化装置1000-1还可以包括布置于激光发生器100与光学系统200之间的偏振调制器POL。偏振调制器POL改变从激光发生器100提供的输入光IL的偏振方向。具体而言，偏振调制器POL将从激光发生器100提供的输入光IL改变为线偏振的IL'。例如，偏振调制器POL可以包括至少一个的直线偏振器POL，Polarizer。图7是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。为了便于说明，以与本发明的一实施例不同点为主进行说明，省略的部分遵循本发明的一实施例。并且，针对上文已说明的构成要素使用相同的附图符号，并省略对所述构成要素的重复说明。参照图7，根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000-2的光学系统200-2还包括第二偏振旋转器PR2。第二偏振旋转器PR2布置于光学系统200-2的最后方。第二偏振旋转器PR2将入射的加工光ML的一个分量的相位延迟最大λ2。即，根据本实施例的第二偏振旋转器PR2可以包括半波片。加工光ML可以通过第二偏振旋转器PR2转换偏振状态后，以输出光OL的形态照射于工作台300。根据本实施例，第二偏振旋转器PR2可以起到使通过第一偏振旋转器PR1转换的偏振状态返回到入射到第一偏振旋转器PR1之前的偏振状态的作用。即，根据本实施例，输入光IL的偏振状态与输出光OL的偏振状态可以相同。然而，本发明并不限于此。例如，根据本发明的另一实施例，利用第二偏振旋转器PR2，从而能够根据用户的意愿调节输出光OL的偏振状态。图8是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。为了便于说明，以与本发明的一实施例不同点为主进行说明，省略的部分遵循本发明的一实施例。并且，针对上文已说明的构成要素使用相同的附图符号，并省略对所述构成要素的重复说明。参照图8，根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000-3的光学系统200-3还包括第一补偿部件CPS1。第一补偿部件CPS1可以在光路上布置于偏振分束器PBS的后方。第一补偿部件CPS1起到补偿被偏振分束器PBS折射的光的路径的作用。例如，根据图8所示的光学系统200-3，透过偏振分束器PBS的第一脉冲光DA1可被偏振分束器PBS折射。第一脉冲光DA1被折射的程度可以根据偏振分束器PBS的材质及厚度而决定。根据本实施例的第一补偿部件CPS1起到补偿被偏振分束器PBS折射的第一脉冲光DA1的路径的作用。例如，第一补偿部件CPS1的材质及厚度可以与偏振分束器PBS的材质及厚度相同。然而，本发明并不限于此。根据本发明的另一实施例，第一补偿部件CPS1可以是具有曲率的透镜形态。图9是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。为了便于说明，以与本发明的一实施例不同点为主进行说明，省略的部分遵循本发明的一实施例。并且，针对上文已说明的构成要素使用相同的附图符号，并省略对所述构成要素的重复说明。参照图9，根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000-4的光学系统200-4还包括第二补偿部件CPS2。第二补偿部件CPS2可以布置于多个镜子M1～M4形成的环路LP1～LP4内。第二补偿部件CPS2起到补偿被偏振分束器PBS折射的光的路径的作用。根据图9所示的光学系统200-4，被偏振分束器PBS反射的第二环路光至第n环路光LL每当通过第n次环路时，第n次透过偏振分束器PBS。第一环路光LL1不透过偏振分束器PBS。透过偏振分束器PBS的第二环路光至第n环路光LL可以被偏振分束器PBS折射。第二环路光至第n环路光LL被折射的程度可以根据偏振分束器PBS的材质及厚度而决定。根据本实施例的第二补偿部件CPS2起到补偿被偏振分束器PBS折射的第二环路光至第n环路光LL的路径的作用。例如，第二补偿部件CPS2的材质及厚度可以与偏振分束器PBS的材质及厚度相同。然而，本发明并不限于此。根据本发明的另一实施例，第二补偿部件CPS2可以是具有曲率的透镜形态。图10是根据本发明的另一实施例的光学系统的示意性模式图。为了便于说明，以与本发明的一实施例不同点为主进行说明，省略的部分遵循本发明的一实施例。并且，针对上文已说明的构成要素使用相同的附图符号，并省略对所述构成要素的重复说明。参照图10，根据本发明的另一实施例的激光晶化装置1000-5还包括分束器BS及监测部MT。分束器BS在光路上布置于光学系统200与工作台300之间，进而分支从光学系统200提供的输出光OL。监测部MT可以包括控制部CU。控制部CU可以对应于在监测部MT测定的输出光OL的强度及半宽度信息而控制第一偏振旋转器PR1的旋转部件。即，旋转部件可以从控制部CU接收电信号而使半波片的光轴旋转。以上，虽然参照实施例进行了说明，但是相关技术领域的熟练的技术人员将可以理解在不脱离权利要求书所记载的本发明的思想及领域的范围内能够对本发明进行多样的修改及变更。并且，本发明公开的实施例并不是用来限定本发明的技术思想的，权利要求书记载的范围及与此等同的范围内的全部技术思想应当理解为包含于本发明的权利范围。

权利要求：1.一种激光晶化装置，包括：激光发生器，发生激光束形态的至少一个输入光；光学系统，将从所述激光发生器接收的所述输入光转换为至少一个输出光；以及工作台，安装被加工物，并被所述输出光照射，其中，所述光学系统包括：第一偏振旋转器，改变所述输入光的偏振状态；偏振分束器，在光路上布置于所述第一偏振旋转器的后方，并根据偏振状态将入射的光透射或反射，从而将所述输入光分支为沿第一方向及与所述第一方向交叉的第二方向行进的光；以及多个镜子，将从所述偏振分束器分支后的光中沿所述第一方向行进的光反射而使其再次朝向所述偏振分束器，从而形成环路，被所述偏振分束器分支后的光中沿所述第二方向行进的光朝向所述工作台照射。2.如权利要求1所述的激光晶化装置，其中，通过所述偏振分束器而沿所述第一方向分支的光第1至第n次通过所述环路，并且第n次通过所述环路后沿所述第二方向分支的光与第n-1次通过环路后沿所述第二方向分支的光混合，且所述n为2以上的自然数。3.如权利要求2所述的激光晶化装置，其中，混合后的所述光具有一个脉冲形态，并且混合后的所述光的半宽度大于所述输入光的半宽度。4.如权利要求2所述的激光晶化装置，其中，从所述偏振分束器向多个镜子提供的光量随着所述环路次数的增加而减小，当所述环路次数为4以上时，混合后的所述输出光的光量是所述输入光的光量的90％以上。5.如权利要求2所述的激光晶化装置，其中，所述第一偏振旋转器包括半波片。6.如权利要求5所述的激光晶化装置，其中，还包括：分束器，在所述光路上布置于所述光学系统与所述工作台之间；以及监测部，从所述分束器接收分支后的光中的一部分而对混合后的所述光的强度及半宽度进行测定。7.如权利要求6所述的激光晶化装置，其中，所述第一偏振旋转器还包括使所述半波片旋转的旋转部件。8.如权利要求7所述的激光晶化装置，其中，所述监测部包括控制所述旋转部件的控制部。9.如权利要求1所述的激光晶化装置，其中，所述输入光是固体激光。10.如权利要求1所述的激光晶化装置，其中，还包括：第二偏振旋转器，在所述光路上布置于所述光学系统的最后方，进而改变入射的光的偏振状态，并且，所述输入光的偏振状态与所述输出光的偏振状态相同。

百度查询： 三星显示有限公司 激光晶化装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD