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一种大阵面相控阵天线近场测试异常判断方法及系统 

申请/专利权人:南京华成微波技术有限公司

申请日:2024-05-30

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118259089A

主分类号:G01R29/10

分类号:G01R29/10;G01R35/00

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明提供一种大阵面相控阵天线近场测试异常判断方法及系统,涉及天线近场测试领域;方法包括:划分待扫描的阵列面为若干区域;对任一区域,获取其扫描前的初始状态作为一参照扫描目标,记录参照扫描目标中各点位的第一位置信息;根据规划扫描路径,顺序获取当前扫描区域中各扫描点位的第二位置信息;根据第二位置信息,匹配当前扫描区域的各扫描点位与对应的参照扫描目标的各点位,并当各扫描点位与参照扫描目标的各点位不一一匹配时,记录不匹配扫描点位或参照扫描目标的点位为异常点位;对完成扫描的区域异常点位进行异常分析。本发明技术方案通过区域化发现异常点位并处理,有效提升大阵面相控阵天线的测试稳定性和方案灵活性。

主权项:1.一种大阵面相控阵天线近场测试异常判断方法,其特征在于,包括:划分待扫描的阵列面为若干区域,记录各所述区域的区域信息;其中,所述区域信息包括区域形状、边界位置和规划扫描路径;对任一所述区域,获取其扫描前的初始状态作为参照扫描目标,记录所述参照扫描目标中各点位的第一位置信息;根据规划扫描路径,顺序获取当前扫描区域中各扫描点位的第二位置信息;根据所述第二位置信息,匹配当前扫描区域的各扫描点位与所述扫描区域对应的所述参照扫描目标的各点位,并当所述当前扫描区域的各扫描点位与所述扫描区域对应的所述参照扫描目标的各点位不一一匹配时,记录不匹配的第一位置信息和或第二位置信息对应的所述扫描点位或所述参照扫描目标的点位为异常点位;根据预设异常因素,对完成扫描的所述区域记录的各所述异常点位进行异常分析,以进行异常处理;其中,所述预设异常因素包括点位重复扫描、点位遗漏扫描和扫描点位偏移。

全文数据:

权利要求:

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