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申请/专利权人：西湖大学
申请日：2024-04-07
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118258834A
主分类号：G01N23/207
分类号：G01N23/207;G01N23/20025
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本公开涉及一种基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法及装置。该方法包括：提供自设的样品台，使之包括可拆卸地机械固定在一起并以第一间隙相互平行的上基座和下基座；将样品台布置在样品台底座上；形成上薄膜组件和下薄膜组件；将上薄膜组件和下薄膜组件，以第二间隙彼此相对地分别安装在上基座和下基座上；对上薄膜组件和下薄膜组件进行同步面内圆周旋转测试，以得到上薄膜和下薄膜的面内phi谱图；根据上薄膜和下薄膜的面内phi谱图，同时评估上薄膜和下薄膜的相同待测面内晶面的晶体取向。利用该方法，能够同时检测并判断该双层薄膜的相同待测面内晶面的晶体取向是否对齐。
主权项：1.一种基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法，其用于同时监测所述背靠背双层薄膜的所述晶体取向，其特征在于，包括：提供自设的样品台，使之包括可拆卸地机械固定在一起并相互平行的上基座和下基座，所述上基座和所述下基座彼此相对且具有第一间隙；将所述样品台布置在所述衍射仪的样品台底座上；通过将待检测的上薄膜沉积在上衬底上来形成上薄膜组件，通过将待检测的下薄膜沉积在下衬底上来形成下薄膜组件，其中，所述上衬底和所述下衬底均由第一单晶材料制成，所述上薄膜和所述下薄膜由相同的第二单晶材料制成；将所述上薄膜组件和所述下薄膜组件，以第二间隙彼此相对地分别安装在所述上基座和所述下基座上，其中，所述第二间隙小于所述第一间隙；对所述上薄膜组件和所述下薄膜组件进行同步面内圆周旋转测试，以得到所述上薄膜和所述下薄膜的面内phi谱图；根据所述上薄膜和所述下薄膜的所述面内phi谱图，同时评估所述上薄膜和所述下薄膜的相同待测面内晶面的所述晶体取向是否对齐。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西湖大学 基于衍射仪的背靠背双层薄膜的晶体取向评估方法及装置
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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