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申请/专利权人：深圳新宙邦科技股份有限公司
摘要：本发明公开了一种BOE蚀刻液及其应用，属于湿电子化学品应用技术领域，按重量百分比计，包括1.00％～20.00％的氟化氢、1.00％～40.00％的氟化铵、0.05％～10.00％的添加剂，余量为水；所述添加剂选自等电点为w的氨基酸化合物，所述蚀刻液的pH值为v，且满足：w‑v≥1。本发明采用氟化氢、氟化铵和氨基酸化合物添加剂组成的BOE蚀刻液配方体系，能够较好地实现对氧化硅层和氮化硅层的蚀刻性能，平衡不同含硅层的蚀刻速率，从而避免药液用于多层硅系薄膜蚀刻时出现底切或突出问题。
主权项：1.一种BOE蚀刻液，其特征在于，按重量百分比计，包括1.00％～20.00％的氟化氢、1.00％～40.00％的氟化铵、0.05％～10.00％的添加剂，余量为水；所述添加剂选自等电点为w的氨基酸化合物，所述蚀刻液的pH值为v，且满足：w-v≥1。
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权利要求：
百度查询： 深圳新宙邦科技股份有限公司 一种BOE蚀刻液及其应用
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