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申请/专利权人:多氟多新材料股份有限公司
摘要:本发明涉及一种选择性BOE蚀刻液,属于湿电子化学品技术领域。所述的蚀刻液成分为5‑15wt%的氢氟酸、20‑40wt%的氟化铵、0.1‑0.6wt%的双组分抑制剂、0.02‑0.2wt%的消泡剂、余量为超纯水;所述双组分抑制剂包括含三氟甲基的苯甲酰胺和双氧水。本发明双组分抑制剂中含三氟甲基的苯甲酰胺与双氧水协同作用,在金属表面形成较好的保护膜,在增加对氧化硅蚀刻速率的情况下仍能保持对金属较少的蚀刻,从而实现较高的选择比;同样因为抑制剂对金属形成较好的保护膜,降低了对金属的蚀刻速率,使得金属表面均匀性较好,粗糙度较低;抑制剂的酰胺基降低蚀刻液表面张力,增加渗透性和钻蚀能力;消泡剂消除气泡影响,辅助改善金属蚀刻面的粗糙度。
主权项:1.一种选择性BOE蚀刻液,其特征在于,所述的蚀刻液成分为5-15wt%的氢氟酸、20-40wt%的氟化铵、0.1-0.6wt%的双组分抑制剂、0.02-0.2wt%的消泡剂、余量为超纯水;所述双组分抑制剂包括含三氟甲基的苯甲酰胺和双氧水。
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