龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
摘要：本发明实施例公开了一种清洗硅片的周缘的装置、方法及清洗硅片的设备，所述装置包括：硅片支承机构，所述硅片支承机构用于将所述硅片水平地支承；第一清洗液喷嘴，所述第一清洗液喷嘴用于喷射清洗液的射束并且使所述射束入射至被支承的所述硅片的周缘，其中，所述射束的下边缘在入射点处与所述硅片的底面齐平并且所述射束的竖向高度为所述硅片的厚度的1.25至1.75倍，所述射束从所述硅片的下方入射并且与所述硅片之间的夹角为5°，所述射束在所述硅片所在平面中的投影与所述硅片的经过所述入射点的切线之间的夹角为40°至50°，所述射束的速度介于2ms至6ms之间。
主权项：1.一种用于清洗硅片的周缘的装置，其特征在于，所述装置包括：硅片支承机构，所述硅片支承机构用于将所述硅片水平地支承；第一清洗液喷嘴，所述第一清洗液喷嘴用于喷射清洗液的射束并且使所述射束入射至被支承的所述硅片的周缘，其中，所述射束的下边缘在入射点处与所述硅片的底面齐平并且所述射束的竖向高度为所述硅片的厚度的1.25至1.75倍，所述射束从所述硅片的下方入射并且与所述硅片之间的夹角为5°，所述射束在所述硅片所在平面中的投影与所述硅片的经过所述入射点的切线之间的夹角为40°至50°，所述射束的速度介于2ms至6ms之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 西安奕斯伟材料科技股份有限公司 西安奕斯伟硅片技术有限公司 清洗硅片的周缘的装置、方法及清洗硅片的设备
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号