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申请/专利权人：华灿光电(苏州)有限公司
摘要：本公开提供了一种DBR层厚度确定方法及发光二极管，属于半导体领域。所述方法包括：分别制作构成所述DBR层的第一子层和第二子层；获取所述第一子层的折射率N1和所述第二子层的折射率N2；基于所述第一子层的折射率N1、所述第二子层的折射率N2、以及所述DBR层的周期N，利用模拟软件确定所述第一子层和所述第二子层的厚度，以使所述DBR层的光学性能满足条件。DBR层厚度确定方法可以制作出具有满足条件的光学性能的DBR膜层，该DBR膜层可以使得发光二极管有源层发出的光更多的往发光二极管的两侧传播，从而增大发光二极管的发光角度。
主权项：1.一种分布式布拉格反射镜DBR层厚度确定方法，其特征在于，所述方法包括：分别制作构成所述DBR层的第一子层和第二子层；获取所述第一子层的折射率N1和所述第二子层的折射率N2；基于所述第一子层的折射率N1、所述第二子层的折射率N2以及所述DBR层的周期N，利用模拟软件确定所述第一子层和所述第二子层的厚度，以使所述DBR层的光学性能满足条件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华灿光电(苏州)有限公司 DBR层厚度确定方法及发光二极管
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