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一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法 

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申请/专利权人:安徽工业大学

摘要:本发明公开一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法,包括步骤:清洗基材;制备AlCrN功能涂层;将所述AlCrN功能涂层沉积在处理后的所述基材上;原位高能Ar+轰击后处理;对制备好的AlCrN功能涂层进行原位高能Ar+轰击后处理:沉积镀膜结束后,对所述基材进行抽真空,加工温度保持在400℃并通入Ar气;开启清洗Ti靶后开启阳极靶材,所述阳极靶材与所述清洗Ti靶构成正负极牵引电子运动,电子与Ar气碰撞产生Ar+,控制负偏压为‑200V,吸引Ar+对设置有所述AlCrN功能涂层的所述基材表面进行离子轰击,轰击时间为40min;本发明可有效去除AlCrN涂层表面的大小液滴颗粒,同时增加涂层和基体的残余压应力,改善了AlCrN涂层的表面粗糙度和切削性能。

主权项:1.一种原位高能Ar+刻蚀后处理改善AlCrN涂层刀具性能的方法,其特征在于,包括步骤:S1,清洗基材;在步骤S1中,将多弧离子镀的真空炉抽真空,通入Ar气并加热至400℃;开启清洗Ti靶后开启阳极靶材,所述阳极靶材与所述清洗Ti靶构成正负极牵引电子运动,电子与Ar气碰撞产生Ar+,控制负偏压为-200V,吸引Ar+对基材表面进行离子轰击;S2,制备AlCrN功能涂层;将所述AlCrN功能涂层沉积在所述步骤S1处理后的所述基材上;S3,原位高能Ar+轰击后处理;所述步骤S3中,对所述步骤S2制备好的AlCrN功能涂层进行原位高能Ar+轰击后处理:沉积镀膜结束后,将AlCrN功能涂层留在镀膜室内并对所述功能涂层进行抽真空,加工温度保持在400℃并通入Ar气;开启清洗Ti靶后开启阳极靶材,所述阳极靶材与所述清洗Ti靶构成正负极牵引电子运动,电子与Ar气碰撞产生Ar+,控制负偏压为-200V,吸引Ar+对设置有所述AlCrN功能涂层的所述基材表面进行离子轰击,轰击时间为40min;在所述AlCrN功能涂层制备过程中,AlCr靶电流调至130A,基体偏压设定为-80V,沉积时间120min;所述AlCr靶的靶材摩尔含量比为Al∶Cr=70∶30。

全文数据:

权利要求:

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