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一种晶圆缺陷改善系统 

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申请/专利权人:北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司

摘要:本申请提供一种晶圆缺陷改善系统,用于改善晶圆的球形缺陷,包括:第一腔室以及设置在第一腔室内部的第一吸盘、风刀和电子发生器,其中,第一腔室顶部设置有第一排气口,用于排出气体;第一吸盘用于吸附晶圆;风刀包括支架,支架一端设置在第一腔室内壁上,另一端连接风刀顶部,风刀由支架移动至第一吸盘正上方,用于喷出第一气体并使第一气体吹扫晶圆表面;电子发生器设置于第一吸盘上方,用于产生电子使晶圆表面带有负电荷。本申请在底部抗反射涂层烘烤之后,在第一腔室内通过对晶圆表面进行电子注入、风刀吹扫,降低了晶圆上球形缺陷数量,提高了晶圆的良品率和设备清洁效率,同时降低了成本。

主权项:1.一种晶圆缺陷改善系统,用于改善晶圆的球形缺陷,其特征在于,包括:第一腔室以及设置在所述第一腔室内部的第一吸盘、风刀和电子发生器,其中,所述第一腔室顶部设置有第一排气口,用于排出气体;所述第一吸盘用于吸附所述晶圆;所述风刀包括支架,所述支架一端设置在第一腔室内壁上,另一端连接风刀顶部,所述风刀由所述支架移动至所述第一吸盘正上方,用于喷出第一气体并使所述第一气体吹扫所述晶圆表面;所述电子发生器设置于所述第一吸盘上方,用于产生电子使所述晶圆表面带有负电荷。

全文数据:

权利要求:

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