恭喜东京毅力科创株式会社桥本佑介获国家专利权
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龙图腾网恭喜东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理装置及其制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112349621B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-03-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010756171.2，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理装置及其制造方法是由桥本佑介;东岛治郎设计研发完成，并于2020-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置及其制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理装置及其制造方法。针对从喷嘴单元喷出的处理液具有充分的耐蚀性，且可靠地防止所喷出的处理液的带电。基板处理装置具有喷嘴单元。喷嘴单元具备配管和设置到配管的顶端的喷头，配管具有第1层、第2层以及第3层。喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成。第3层从外方覆盖第1层和第2层，并且从外方覆盖喷头的一部分。
本发明授权基板处理装置及其制造方法在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其具有：基板保持机构，其保持被处理基板；和喷嘴单元，其向保持到所述基板保持机构的所述被处理基板喷出处理液，其特征在于，所述喷嘴单元具备：配管，其供给所述处理液；和喷头，其设置于所述配管的顶端，朝向所述被处理基板喷出所述处理液，所述配管具有从内侧依次配置的、由耐蚀性树脂形成的第1层、由刚性材料形成的第2层、以及由耐蚀性树脂形成的第3层，所述喷头由具有导电性的耐蚀性树脂形成，所述第3层从外方覆盖所述第1层和所述第2层，并且从外方覆盖所述喷头的一部分，所述喷头嵌入所述配管内且与所述配管相独立地构成，所述第3层的顶端相对于所述第2层的顶端进一步向所述喷头的顶端侧延伸，所述第2层的顶端相对于所述第1层的顶端进一步向所述喷头的顶端侧延伸。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人东京毅力科创株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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