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摘要：本发明涉及一种树脂、光致抗蚀剂树脂组合物，所述树脂含有式Ⅰ、式Ⅱ、式Ⅲ、式Ⅳ和式Ⅴ的结构单元；本发明通过对树脂的结构进行设计，使得采用本发明提供的树脂的光致抗蚀剂树脂组合物，具有粘附性高、耐电镀性能优异、分辨率高、图形形貌优良的特性，并且形成的光致抗蚀剂树脂膜不易开裂。
主权项：1.一种树脂，其特征在于，所述树脂含有如式Ⅰ、式Ⅱ、式Ⅲ、式Ⅳ和式Ⅴ所示的结构单元： 其中，R1、R2、R3、R4各自独立地选自氢原子、卤素、未取代或R'取代的C1-C15直链或支链烷基、未取代或R'取代的C1-C15烷氧基中的任意一种；Y1选自未取代或R'取代的C1-C15直链或支链烷基、未取代或R'取代的C1-C15烷氧基中的任意一种；Y2、Y3、Y4各自独立地选自未取代或R'取代的C1-C15直链或支链烷基中的任意一种；Y5选自氢原子、未取代或R'取代的C1-C15直链或支链烷基、未取代或R'取代的C1-C15烷氧基中的任意一种；式Ⅲ中，环X选自未取代或R'取代的C5-C20环烷基中的任意一种；Y6选自未取代或R'取代的如下基团中的任意一种： 其中，－*代表基团的连接位点；Y7选自未取代或R'取代的C2-C15直链烷基中的任意一种，所述未取代或R'取代的C2-C15直链烷基中一个或至少两个不相邻的-CH2-分别独立地被O替代或不替代；g选自0、1或2；m、n、k、t和s分别表示式Ⅰ、式Ⅱ、式Ⅲ、式Ⅳ和式Ⅴ所示的结构单元在所述树脂中的摩尔百分比；m、n、k、t和s的取值同时满足如下条件：10＜m＜1，0≤n＜1，0≤k＜1，0＜t＜1，0＜s＜1；2n、k不同时为0；3m+n+k+t+s＝1；所述R'各自独立地选自卤素、C1-C15直链或支链烷基、C1-C15烷氧基、C6-C20芳基、C5-C20环烯基、C3-C20环烷基中的至少一种。
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