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摘要：本发明公开了一种具有强力玷污清洗的单晶硅片制绒添加剂及制绒方法，包括以下质量百分比原料成分：天然大分子糖类0.8‑2份、绒面调节剂0.05‑0.5份、清洗助剂0.5‑2份、表面活性剂0.05‑0.2份、无机碱1.0份、去离子水94.3‑100份。本发明还公开了制绒添加剂的方法和用途。本发明制绒添加剂对来料片源污染严重具有良好的清洗效果，在制绒过程可通过一步制绒而无需粗抛工艺即可实现绒面的出绒效果，同时有效减少工艺步骤以及化学品消耗。
主权项：1.一种具有强玷污清洗能力的单晶硅制绒添加剂，其特征在于，包括：
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百度查询： 浙江纪堂科技有限公司 一种具有强玷污清洗能力的单晶硅制绒添加剂及制绒方法
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