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摘要：本发明公开了一种半导体清洗剂组合物和清洗方法，其清洗剂组合物包括一种碱0.01wt.％～10wt.％；螯合剂0.01wt.％～0.5wt.％；精氨酸和2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇的组合0.01wt.％～5wt.％；表面活性剂0.01wt.％～5wt.％；余量为水。本发明通过添加螯合剂和特定组合的精氨酸和2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇作为缓蚀剂，从而即使在含有氢氧化钠、氢氧化钾或四甲基氢氧化铵的强碱性条件下，也能非常有效地防止Ni、Fe和Cu等金属杂质在基板表面的吸附，还能够清洗基板表面的金属污染，防止基材和金属布线的腐蚀。
主权项：1.一种半导体清洗剂组合物，其特征在于，包括一种碱0.01wt.％～10wt.％；螯合剂0.01wt.％～0.5wt.％；精氨酸和2-氨基-2-甲基-1-丙醇的组合0.01wt.％～5wt.％；表面活性剂0.01wt.％～5wt.％；余量为水；所述碱为氢氧化钾；所述螯合剂为葡萄糖酸；所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基醚；所述精氨酸和2-氨基-2-甲基-1-丙醇的质量比为1～10：1。
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