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基板处理方法及基板处理装置 

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摘要:基板处理方法包括:清洗工序,从液滴喷嘴向被保持为水平姿势的基板的上表面上所设定的液滴供给位置喷射处理液液滴,来清洗所述基板的上表面;冲洗工序,在所述清洗工序之后,从冲洗液喷嘴向所述基板的上表面的预定的着液位置喷出连续流动状的冲洗液,用冲洗液冲洗所述基板的上表面;以及液滴喷出停止工序,在从所述清洗工序向所述冲洗工序转移时,在着液于所述着液位置的冲洗液到达所述液滴供给位置之前,停止从所述液滴喷嘴喷出所述处理液液滴。

主权项:1.一种基板处理方法,其中,包括:保护膜形成工序,从冲洗液喷嘴向设置在被保持为水平姿势的基板的上表面的中央部的着液位置喷出连续流动状的冲洗液,在所述基板的上表面形成冲洗液的保护膜,清洗工序,在停止从所述冲洗液喷嘴喷出冲洗液后,从所述基板的上表面上所设定且被所述保护膜覆盖的液滴供给位置喷射处理液液滴,来清洗所述基板的上表面,冲洗工序,接着在所述清洗工序之后,一边使所述基板绕着通过所述基板的中央部的规定的铅垂轴线旋转,一边从所述冲洗液喷嘴向所述基板的上表面的所述着液位置喷出连续流动状的冲洗液,用冲洗液冲洗所述基板的上表面,所述冲洗工序在所述液滴喷嘴配置在所述基板的周缘区域上的状态下开始,以及液滴喷出停止工序,在从所述清洗工序向所述冲洗工序转移的过程中,在着液于所述着液位置的冲洗液到达配置在所述基板的周缘区域的所述液滴供给位置之前,停止从所述液滴喷嘴喷出所述处理液液滴。

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