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摘要:本发明涉及一种薄片类介质处理装置,其中,第二输送辊和第一从动辊均可转动地连接于第一活动架,第一从动辊用于与第一输送辊配合;第一活动架能绕第二输送辊的轴线转动,以调节第一从动辊与第一输送辊的间距大小;第一输送辊和第二从动辊均可转动地连接于第二活动架,第二从动辊用于与第二输送辊配合,第二活动架能绕第一输送辊的轴线转动,以调节第二从动辊与第二输送辊的间距大小;第二活动架与第一活动架活动连接,且两者中的一者转动时能带动另一者反向转动,以使第一从动辊与第一输送辊的间距增大时第二从动辊与第二输送辊的间距也增大;处理机构位于第一输送辊和第二输送辊之间。该薄片类介质处理装置能提高处理机构对薄片类介质处理精度。
主权项:1.一种薄片类介质处理装置,其特征在于,包括:机架、第一输送组件、第二输送组件和处理机构,所述第一输送组件包括第一输送辊、第一活动架和第一从动辊,所述第二输送组件包括第二输送辊、第二活动架和第二从动辊;所述第一输送辊和所述第二输送辊平行且间隔地设置于所述机架;所述第一活动架的第一端与所述第二输送辊可转动地连接,所述第一从动辊可转动地设置于所述第一活动架的第二端、且用于与所述第一输送辊配合;所述第一活动架能绕所述第二输送辊的轴线转动,以使所述第一从动辊与所述第一输送辊的间距增大或减小;所述第二活动架的第一端与所述第一输送辊可转动地连接,所述第二从动辊可转动地设置于所述第二活动架的第二端、且用于与所述第二输送辊配合,所述第二活动架能绕所述第一输送辊的轴线转动,以使所述第二从动辊与所述第二输送辊的间距增大或减小;其中,所述第二活动架与所述第一活动架活动连接,且所述第一活动架和所述第二活动架两者中的一者转动时能带动两者中的另一者反向转动,以在所述第一从动辊与所述第一输送辊的间距增大时,使所述第二从动辊和所述第二输送辊的间距也增大;所述处理机构位于所述第一输送辊和所述第二输送辊之间,且用于对薄片类介质进行处理。
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