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申请/专利权人：上海上诺科技发展有限公司
摘要：本实用新型公开了一种自洁式化工反应釜，包括反应釜、冷凝管、底座、冷凝水口、耳座、封盖、进料口、水阀、温度计口、清洁装置、主轴、电机、转盘、滑槽、滑块、连接块、喷座、喷头、连接装置、转轴、搅拌器、套杆、卡块、卡盘、套筒、旋钮。本实用新型提高设置清洁装置，将清洁装置贯穿垂直安装在反应釜中部，用来对反应釜内壁残留的反应残渣进行清洗，同时与连接装置相配合使用，进一步控制搅拌器的摆动对反应釜内部进行强度清洁，从而解决了清洁装置操作麻烦、清洁面积不均匀、小部分残渣难以清理的问题，从而提高了清洁装置的清洁效果，省去了人工操作的步骤，大大增强了工作效率，延长了反应釜的使用寿命。
主权项：1.一种自洁式化工反应釜，包括反应釜1，所述反应釜1外表面设置有冷凝管2，所述反应釜1底端设置有底座3，所述反应釜1底端中部安装有冷凝水口4，所述反应釜1外表面顶部安装有耳座5，所述反应釜1顶端相接有封盖6，所述封盖6上设置有进料口7，且进料口7端口连接有水阀8，同时冷凝管2尾端连接在水阀8上，所述封盖6上安装有温度计口9；其特征在于：还包括清洁装置10，所述清洁装置10贯穿垂直安装在反应釜1中部，用来对反应釜内壁残留的反应残渣进行清洗，所述清洁装置10包括主轴100、电机101、转盘102、滑槽103、滑块104、连接块105、喷座106、喷头107、连接装置108、转轴109和搅拌器1010，所述主轴100设置在封盖6上中部，所述电机101安装在主轴100顶端，且电机101输出轴贯穿主轴100、封盖6与转盘102相接，所述转盘102安装在主轴100底端，所述转盘102上开设了滑槽103，所述滑块104连接在滑槽103上，且连接块105内侧与滑块104相接、底端与喷座106相接，所述喷座106连接在转盘102底端，所述喷头107安装在喷座106底部尾端处，所述连接装置108安装在转盘102底端中部，且转轴109顶端与连接装置108中部相接，所述搅拌器1010设置于转轴109外表面上，所述主轴100底端连接在封盖6上，所述转轴109底端连接在反应釜1内底端。
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