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一种触摸屏用氢氟酸蚀刻液的生产工艺 

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申请/专利权人:株洲英东实业有限公司

摘要:本发明公开了一种触摸屏用氢氟酸蚀刻液的生产工艺,具体涉及蚀刻液生产技术领域,包括以下步骤:步骤一:准备纯度高、杂质少的萤石(CaF2)矿石和浓度适中、杂质少的工业级硫酸(H2SO4)作为原料;步骤二:将萤石矿石投入到破碎机中进行破碎,将萤石矿石破碎成大小相近的小碎块;步骤三:将萤石矿石小碎块投入到研磨机中进行研磨,将萤石矿石小碎块研磨成萤石粉末;步骤四:将萤石粉末投入到振动筛中进行筛分。本发明可以有效处理生产过程中产生的废气和废液,对废气和废液中的有害物质进行处理,避免有害物质随着废气和废液排放至外界环境中,从而避免污染环境,达到了绿色环保的目的,使得本发明的实际使用效果较好。

主权项:1.一种触摸屏用氢氟酸蚀刻液的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:步骤一:准备纯度高、杂质少的萤石(CaF2)矿石和浓度适中、杂质少的工业级硫酸(H2SO4)作为原料;步骤二:将萤石矿石投入到破碎机中进行破碎,将萤石矿石破碎成大小相近的小碎块;步骤三:将萤石矿石小碎块投入到研磨机中进行研磨,将萤石矿石小碎块研磨成萤石粉末;步骤四:将萤石粉末投入到振动筛中进行筛分,将未完全研磨的萤石颗粒与萤石粉末分离,将分离出的萤石粉末和萤石颗粒分别收集起来,萤石粉末用于后续的反应步骤,萤石颗粒用于下次研磨加工;步骤五:将萤石粉末与硫酸按1:1.2投入至反应器中进行反应,反应温度控制在270℃-290℃,使萤石粉末与硫酸发生化学反应,生成硫酸钙(CaSO4)和氢氟酸(HF)以及废气;步骤六:将反应产生的废气收集起来,通过两级水喷淋配合三级碱喷淋对废气进行中和、洗涤和净化,去除其中的氢氟酸有害物质,然后再排出废气;步骤七:反应完成后,将反应液加入到精馏塔中进行蒸馏处理,利用氢氟酸易挥发的特性,在较低的温度下将其蒸出,并与硫酸钙等固体杂质分离;步骤八:蒸馏出的氢氟酸气体经过冷凝器冷却凝结成液体,收集得到氢氟酸产品;步骤九:使用离子交换法对收集到的氢氟酸产品进行纯化,提高氢氟酸的纯度;步骤十:将蒸馏产生的废液和纯化产生的废液收集起来,通过沉淀去除废液中的悬浮物,然后调整废液的pH值,使废液酸碱度适中;步骤十一:将调整pH值后的废液进行膜分离处理,将废液中的有害物质分离出来,分离处理之后排出废液。

全文数据:

权利要求:

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