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申请/专利权人：广西自贸区睿显科技有限公司
摘要：本发明公开了一种通过蒸镀制作硅基OLED的方法，包括以下步骤：在硅基板上曝光显影操作制备阳极像素结构；并在阳极像素结构上镀膜制得阳极金属膜层；然后通过蒸镀得方式在阳极金属膜层上完成OLED发光层和功能层；在对OLED发光层进行密封后，最后依次蒸镀单色彩膜层，完成制备。通过真空蒸镀方式制备RGB彩色滤光层，厚度可控且控制更精细所制得的RGB彩色滤光层具有更好的均匀度，解决RGB彩色滤光层涂覆不均匀导致显影异常，以及由显影异常衍生显示器件色域性能不佳问题。
主权项：1.一种通过蒸镀制作硅基OLED的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、取一硅基板，在其一侧涂覆涂覆光刻胶，形成光刻胶层；S2、对光刻胶层进行曝光显影操作，制备得到阳极像素结构；S3、取步骤S2中带有阳极像素结构的硅基板，对阳极像素结构所在一侧进行镀膜，形成阳极金属膜层；S4、取步骤33中带有阳极金属膜层的硅基板，采用蚀刻工艺对阳极金属膜层所在一侧进行处理，得到像素定义区；S5、将步骤S4中带有像素定义区的硅基板传入蒸镀设备通过高精度掩膜板依次制备空穴传输层、空穴注入层、发光层、电子传输层、电子注入层，用于完成OLED发光层和功能层的沉积制备；S6、将完成步骤S5的硅基板，在OLED发光层和功能层上方进行密封，形成密封层；S7、将完成步骤S6的硅基板，通过真空蒸镀方式制备得到单色彩膜层；S8、将完成步骤S7制得彩膜层得硅基板，选择性进行曝光显影操作去除部分单色彩膜层，保留指定的局部单色彩膜层；S9、循环执行步骤S7、步骤S8三次，完成RGB三原色所分别对应的单色彩膜层的制备，得到彩膜像素层；S10、将步骤S9中带有RGB三原色彩膜像素层的硅基板传入涂胶设备涂覆保护层，完成制备。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广西自贸区睿显科技有限公司 一种通过蒸镀制作硅基OLED的方法及微显示器
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