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申请/专利权人：内蒙古鑫华半导体科技有限公司
摘要：本发明公开了一种硅料清洗系统及硅料清洗方法，涉及半导体技术领域，所述硅料清洗系统包括：输送组件，输送组件包括传动带；托板组件，托板组件设于传动带上且为沿输送组件的输送方向间隔开的多个，托板组件具有上方敞开的容纳槽，容纳槽用于容纳硅料；清洗装置，清洗装置位于传动带上方，用于清洗容纳槽内的硅料。根据本发明的硅料清洗系统，实现对每个托板组件的容纳槽内的硅料进行清洗，通过传动带可以连续、稳定、高效地传递多个托板组件，减少机械臂在搬运过程中产生的等待时间，从而提高硅料清洗系统的产量，且每个托板组件的容纳槽内的硅料相互独立，保证硅料的清洗效果，提高硅料清洗系统的可靠性。
主权项：1.一种硅料清洗系统，其特征在于，包括：输送组件，所述输送组件包括传动带；托板组件，所述托板组件设于所述传动带上且为沿所述输送组件的输送方向间隔开的多个，所述托板组件具有上方敞开的容纳槽，所述容纳槽用于容纳硅料；清洗装置，所述清洗装置位于所述传动带上方，用于清洗所述容纳槽内的所述硅料。
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权利要求：
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