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一种可提高光子对产生速率的双带quasi-BIC超表面 

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申请/专利权人:南昌大学

摘要:本发明公开了一种可提高光子对产生速率的双带quasi‑BIC超表面,该双带quasi‑BIC超表面由周期性排列的单元结构组成,每个单元结构包括一个铌酸锂LiNbO3材料制成的开口圆盘和二氧化硅SiO2衬底;所述开口圆盘上设有开口圆孔,所述开口圆孔的圆心距离开口圆盘的圆心距离为410nm,所述开口圆盘的半径为450nm,厚度为150nm,所述开口圆孔的半径为140nm,所述衬底厚度为100nm,所述双带quasi‑BIC超表面在光强100MWcm2的泵浦光正入射条件下,光子对的生成速率为1.13×106Hz。本发明提供双带quasi‑BIC超表面结构支持双带quasi‑BIC模式,并具有高品质因子和极高的电场增强效应,能够有效增强SPDC非线性量子过程,从而显著提高光子对生成速率,同时相对传统非线性晶体、光子晶体和波导等结构而言,体积更小,能够适配更多应用场景。

主权项:1.一种可提高光子对产生速率的双带quasi-BIC超表面,其特征在于,所述双带quasi-BIC超表面由周期性排列的单元结构组成,每个单元结构包括一个铌酸锂LiNbO3材料制成的开口圆盘和二氧化硅SiO2衬底;所述开口圆盘上设有开口圆孔,所述开口圆盘的半径为450nm,厚度为150nm,所述开口圆孔的半径为140nm,所述衬底厚度为100nm,所述双带quasi-BIC超表面的周期为1500nm。

全文数据:

权利要求:

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