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申请/专利权人：苏州五方光电材料有限公司
摘要：本发明公开了一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，包括真空室、靶材组件、真空室门和位于所述真空室内的承载部，所述承载部用于承载基板，所述基板与靶材组件相对设置，所述基板与靶材组件之间具有用于形成渐变中灰度镜的渐变区域的挡板组件，所述挡板组件包括挡板以及固定所述挡板的固定机构。本发明的用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，通过增加挡板，对基板上不需要镀衰减膜的位置进行遮挡，实现渐变中灰度镜光学渐变的要求。
主权项：1.一种用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备，包括真空室、靶材组件、真空室门和位于所述真空室内的承载部，所述承载部用于承载基板，所述基板与靶材组件相对设置，其特征在于，所述基板与靶材组件之间具有用于形成渐变中灰度镜的渐变区域的挡板组件，所述挡板组件包括挡板以及固定所述挡板的固定机构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州五方光电材料有限公司 用于制备渐变中灰度镜的磁控溅射设备、渐变中灰度镜及其制备方法和应用
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