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申请/专利权人：佛山紫熙慧众科技有限公司
摘要：本发明公开了一种实现对称点阵特征图形的二元光栅阵列及其方法，根据入射光波长和对称点阵特征图形的其中一对对称点的发散角得到与该对对称点对应的光栅的周期，然后根据这一对光点的所在空间位置方向，设计其对应光栅单元的刻蚀方向，最后根据与所述一对对称点对应的所述光栅的分束情况，得出所述光栅的刻蚀深度；如此设计出每一个光栅结构，将其组合形成最终衍射光栅元件的微结构单元；本二元光栅阵列的结构简单，制备方法步骤简便，具备可操作性强、可靠性好、能量利用率高、可复制性强、衍射光弱等优点，适用范围广，适用于所有对称点阵特征图形的实现。
主权项：1.一种实现对称点阵特征图形的二元光栅阵列的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：S1：获取入射光的波长；S2：根据所述入射光的波长和对称点阵特征图形的其中一对对称点的发散角得到与该对对称点对应的光栅的周期；S3：根据所述一对对称点所在空间位置的方向，得到所述与该对对称点对应的光栅的刻蚀方向；S4：根据与所述一对对称点对应的所述光栅的分束情况，得出所述光栅的刻蚀深度；S5：重复执行S2～S4，遍历所述对称点阵特征图形中的所有对称点，直到得出所有对应的光栅，最终得到整个二元光栅阵列。
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