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申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司
摘要：一种图形修正方法及图形修正系统、半导体结构，涉及半导体技术领域，图形修正方法包括：获取目标图形，目标图形中包括特征拐角，特征拐角为需要进行圆角效应改善的角；切除特征拐角，形成预处理图形；对预处理图形进行光学临近修正处理，获得修正图形。经过预处理后，能够先将目标图形中造成图形失真的因素进行处理，改善圆角化效应。
主权项：1.一种图形修正方法，其特征在于，包括：获取目标图形，所述目标图形中包括特征拐角，所述特征拐角为需要进行圆角效应改善的角；切除所述特征拐角，形成预处理图形；对所述预处理图形进行光学临近修正处理，获得修正图形。
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百度查询： 长鑫存储技术有限公司 一种图形修正方法及图形修正系统、半导体结构
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