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申请/专利权人：北京理工大学
摘要：本发明涉及一种面向增材制造的一体化自支撑蒙皮点阵结构及其设计方法，该方法通过以正交、均匀排布六面体单元对三维设计域进行离散，然后对每个离散单元进行判断并分类为边界六面体和非边界六面体，并将边界六面体均匀划分为多个次级六面体，对每个非边界六面体及次级六面体进行点阵胞元填充，完成填充后再以蒙皮作为修剪面对点阵芯层进行修剪，并在修剪后与蒙皮装配，得到面向增材制造的一体化自支撑蒙皮点阵结构的设计模型。该方法在保证支撑结构几何连接性的前提下，实现自支撑一体化设计，保证结构内部的支撑结构与点阵芯层的几何连接及载荷传递。设计过程相对简单，为增材制造蒙皮点阵结构的设计带来极大便利，具有十分重要的工程应用价值。
主权项：1.一种面向增材制造的一体化自支撑蒙皮点阵结构设计方法，其特征在于，包括以下步骤：以正交、均匀排布六面体单元对蒙皮点阵结构的三维设计域空间进行离散；离散后，对每个离散单元进行判断并分类为：边界六面体和非边界六面体；将所述边界六面体均匀划分为多个次级六面体；每个所述非边界六面体和每个所述次级六面体各自均为一个设计域单元，对每个设计域单元进行点阵胞元填充，相邻两个设计域单元内的点阵胞元具有满足支撑需要的连接，所填充的点阵胞元中，任意两个节点之间距离小于增材制造工艺所允许的最大跨距；完成点阵胞元填充后，再以蒙皮作为修剪面对点阵芯层进行修剪；将蒙皮与修剪后的点阵芯层装配，得到面向增材制造的一体化自支撑蒙皮点阵结构的设计模型。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京理工大学 面向增材制造的一体化自支撑蒙皮点阵结构及其设计方法
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