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申请/专利权人：无锡灿晶微电子科技有限公司
摘要：本发明提供一种半导体掩膜版数据图形优化方法及系统，涉及数据处理技术领域，方法包括：获取半导体掩膜版数据，半导体掩膜版数据包括待加工的设计图形；构建光刻成像模型；对待加工的设计图形进行初步分段；将初步分段后的设计图形输入至光刻成像模型中，输出光刻加工后的实际图形；基于设计图形与实际图形之间的差异，计算各段图形的EPE敏感度；基于EPE敏感度，对初步分段后的设计图形进行精细分段；基于各段图形的工艺变动感知EPE、PV带区域面积以及CPU运行时间，控制精细分段后的各段图形进行移动，对待加工图形进行图形优化。本发明可以提高图案的几何精度，提升图形优化效率，降低图形优化难度。
主权项：1.一种半导体掩膜版数据图形优化方法，其特征在于，包括：S1：获取半导体掩膜版数据，所述半导体掩膜版数据包括待加工的设计图形；S2：构建光刻成像模型；S3：对待加工的设计图形进行初步分段；S4：将初步分段后的设计图形输入至所述光刻成像模型中，输出光刻加工后的实际图形；S5：基于所述设计图形与所述实际图形之间的差异，计算各段图形的EPE敏感度；S6：基于所述EPE敏感度，对初步分段后的设计图形进行精细分段；S7：基于各段图形的工艺变动感知EPE、PV带区域面积以及CPU运行时间，控制精细分段后的各段图形进行移动，对所述待加工图形进行图形优化。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡灿晶微电子科技有限公司 一种半导体掩膜版数据图形优化方法及系统
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