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电弧离子镀膜装置 

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申请/专利权人:江苏徐工工程机械研究院有限公司

摘要:本发明涉及电弧离子镀技术领域,特别涉及一种电弧离子镀膜装置。本发明的电弧离子镀膜装置,包括:基体支架,用于支撑基体;电弧源,包括阴极靶,阴极靶用于释放等离子体,以为基体镀膜;和辅助阳极,设置于阴极靶与基体支架之间,辅助阳极内设有允许阴极靶所释放等离子体通过的通道,且辅助阳极与阴极靶之间形成电场,辅助阳极和阴极靶分别与电源的正极和负极电连接。基于此,可减少大颗粒在膜层上的沉积,从而有效改善膜层质量。

主权项:1.一种电弧离子镀膜装置(100),其特征在于,包括:基体支架(2),用于支撑基体(21);电弧源(3),包括阴极靶(31)和引弧极(32),所述阴极靶(31)用于释放等离子体(7),以为所述基体(21)镀膜,所述引弧极(32)与所述阴极靶(31)可分离地结合,用于控制所述阴极靶(31)是否释放所述等离子体(7);和辅助阳极(4),设置于所述阴极靶(31)与所述基体支架(2)之间,所述辅助阳极(4)内设有允许所述阴极靶(31)所释放等离子体(7)通过的通道(43),且所述辅助阳极(4)与所述阴极靶(31)之间形成电场,所述辅助阳极(4)和所述阴极靶(31)分别与电源(51)的正极和负极电连接,其中,所述辅助阳极(4)包括本体部(41),所述本体部(41)围设于所述通道(43)四周,且所述本体部(41)具有非连续的表面,所述本体部(41)包括至少两根杆件(411),所述至少两根杆件(411)沿着所述通道(43)的周向间隔布置。

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