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集成异质结二极管的平面栅碳化硅MOSFET器件 

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申请/专利权人:杭州谱析光晶半导体科技有限公司

摘要:本发明公开了集成异质结二极管的平面栅碳化硅MOSFET器件,本发明涉及半导体功率器件技术领域,包括漏极电极,漏极电极的上端设置有导电衬底层,导电衬底层的上端设置有导电外延层,导电外延层的上端设置有特征沟槽,特征沟槽的下端开有两组磁场缓冲槽,两组磁场缓冲槽上均设置有两组磁场缓冲槽,导电外延层与特征沟槽之间共同设置有两个第二沟槽,导电外延层的上端两侧均设置有导电阱区。该集成异质结二极管的平面栅碳化硅MOSFET器件,能够降低栅介质中的电场强度,有效保护栅介质不被击穿,实现较低的导通压降和开关损耗,避免双极退化问题,以及降低制作成本的同时,能够增加器件光刻的精准度。

主权项:1.集成异质结二极管的平面栅碳化硅MOSFET器件,包括漏极电极1,其特征在于:所述漏极电极1的上端设置有导电衬底层2,所述导电衬底层2的上端设置有导电外延层3,所述导电外延层3的上端设置有特征沟槽5,所述特征沟槽5的下端开有两组磁场缓冲槽41,两组所述磁场缓冲槽41上均设置有两组磁场缓冲槽41,所述导电外延层3与特征沟槽5之间共同设置有两个第二沟槽8,所述导电外延层3的上端两侧均设置有导电阱区10,两个所述导电阱区10与导电外延层3之间均设置有第一沟槽9,且两个导电阱区10的上端均设置有导电源区11,所述导电源区11内设置有P-缓冲区和P+缓冲区,P-缓冲区和P+缓冲区内均设置有磁场缓冲槽41,所述特征沟槽5内设置有导电屏蔽层6,所述导电屏蔽层6内设置有栅极电极7,每个所述导电阱区10和导电源区11的上方共同设置有源极电极13。

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