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气体低温纯化系统和方法 

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申请/专利权人:上海先普气体技术有限公司

摘要:本公开涉及气体低温纯化系统和方法,纯化系统包括纯化单元和再生单元;纯化单元包括一端连接原料气气源的进气管路、与进气管路的另一端相连通的至少两个纯化装置以及设置于纯化装置且用于吸附原料气中的杂质的吸附剂,至少两个纯化装置供交替进行原料气纯化和吸附剂再生;进气管路的两端之间依次设有用于冷却原料气的第一、第二和第三冷却装置,经冷却到达纯化装置的原料气的温度为70~100K;纯化装置内部设有第四冷却装置,用于对吸附剂进行冷却;再生单元包括第一吹扫气管路以及连接于第一吹扫气管路的第一加热器,以将加热后的第一吹扫气通入纯化装置,使吸附剂受热发生解吸附并将释放出的杂质向外排出。本公开能够获得ppb级别的纯化气。

主权项:1.一种气体低温纯化系统,其特征在于,包括纯化单元和再生单元;所述纯化单元包括一端连接原料气气源的进气管路、与所述进气管路的另一端相连通的至少两个纯化装置以及设置于所述纯化装置且用于吸附原料气中的杂质的吸附剂,至少两个所述纯化装置供交替进行原料气纯化和吸附剂再生;所述进气管路的两端之间依次设有用于冷却所述原料气的第一冷却装置、第二冷却装置和第三冷却装置,经冷却到达所述纯化装置的所述原料气的温度为70~100K;所述纯化装置内部设有第四冷却装置,用于对所述吸附剂进行冷却;所述再生单元包括第一吹扫气管路以及连接于所述第一吹扫气管路的第一加热器,以将加热后的第一吹扫气通入所述纯化装置,使所述吸附剂受热发生解吸附并携带释放出的所述杂质向外排出;所述第三冷却装置包括套设于所述纯化装置外的第一冷却剂罐体,所述第一冷却剂罐体内通入有冷却剂,所述纯化装置浸没在所述第一冷却剂罐体的冷却剂中;所述进气管路有部分设置于所述第一冷却剂罐体内且浸没在冷却剂内并盘绕于所述纯化装置外,所述第三冷却装置中的冷却剂用量根据所述原料气和纯化气中的杂质含量进行调节;所述第二冷却装置包括套设于所述第一冷却剂罐体外的保温瓶,所述纯化装置的出气管路有部分盘绕于所述第一冷却剂罐体的外壁且位于所述保温瓶内,所述进气管路有部分穿设于所述纯化装置的出气管路,使得经所述纯化装置纯化后的低温的纯化气与所述进气管路中的所述原料气进行热交换;出所述第四冷却装置的冷却剂流入所述第三冷却装置,所述第一冷却装置包括供向外排出气化的所述冷却剂的排气管,所述进气管路有部分从所述排气管内穿过,使得气化的所述冷却剂与所述进气管路中的所述原料气进行初次热交换;所述第四冷却装置包括设置于所述纯化装置内且埋设于所述吸附剂中的第二冷却剂罐体,所述第二冷却剂罐体内充满冷却剂;以及盘绕于所述第二冷却剂罐体外且用于冷却所述吸附剂的冷却管,所述冷却管埋设于所述吸附剂中,冷却剂经所述冷却管通入所述第二冷却剂罐体。

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