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申请/专利权人：沈阳富创精密设备股份有限公司

摘要：本发明涉及原子层沉积技术领域，具体是一种氧化钇陶瓷涂层原子层沉积系统，包括导轨和沿着导轨方向依次设置的七个工作工位，所述工作工位依次为上料工位、预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位、后处理工位和下料工位，在所述预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位和后处理工位上分别设置有一个单体工序腔，单体工序腔分别为预处理腔、前驱体反应腔、中间处理腔、氧化剂反应腔和后处理腔，在导轨上安装有与七个所述工作工位相对应的可移动的单体工件装载装置，所述单体工件装载装置与所述单体工序腔通过快速接通机构连通或断开。该氧系统实现了氧化钇陶瓷涂层原子层沉积的工业化生产，提高了生产效率。

主权项：1.一种氧化钇陶瓷涂层原子层沉积系统，其特征在于，包括导轨（1）和沿着导轨（1）方向依次设置的七个工作工位，所述工作工位依次为上料工位、预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位、后处理工位和下料工位，在所述预处理工位、前驱体反应工位、中间处理工位、氧化剂反应工位和后处理工位上分别设置有一个单体工序腔（2），所述单体工序腔（2）分别为预处理腔、前驱体反应腔、中间处理腔、氧化剂反应腔和后处理腔，在导轨（1）上安装有与七个所述工作工位相对应的可移动的单体工件装载装置，所述单体工件装载装置（3）与所述单体工序腔（2）通过快速接通机构连通或断开；所述快速接通机构包括设置在所述单体工序腔（2）的腔体（21）底部的接通孔和孔盖（22）及所述单体工件装载装置（3）的底座（31）、底板（35）、工件箱（36）和箱盖（38），所述孔盖（22）密封性地插装在接通孔中，在所述单体工序腔（2）内设置有始终向下压所述孔盖（22）的弹力组件，所述底座（31）与所述导轨（1）配合可沿着所述导轨（1）移动，所述底板（35）通过伸缩机构安装在所述底座（31）的顶部，所述工件箱（36）固定设置在所述底板（35）的顶部，在所述工件箱（36）的顶部设置有箱盖（38），所述箱盖（38）通过开闭机构连接在工件箱（36）上，所述工件箱（36）的上部气密性地与所述接通孔插装配合；所述伸缩机构包括伸缩元件Ⅰ（34）、导套（32）和导柱（33），所述导套（32）固定在所述底板（35）的底部，所述导柱（33）固定在所述底座（31）的顶部，所述导柱（33）和导套（32）配合给底板（35）在底座（31）上的升降动作进行导向；所述开闭机构包括伸缩元件Ⅱ（37），伸缩元件Ⅱ（37）安装于开设在所述工件箱（36）侧壁上的安装孔腔内，所述伸缩元件Ⅱ（37）的伸缩端端部与所述箱盖（38）固定连接；所述导轨（1）为两条平行设置的“T”型截面结构，在所述底座（31）上设置有与所述导轨（1）截面相配合的“T”型槽，在所述底座（31）上设置有驱动装置，所述驱动装置包括电机（311）、齿轮（312）和齿条（313），所述电机（311）固定在所述底座（31）上，所述齿轮（312）固定连接在所述电机（311）的输出轴上，所述齿条（313）平行于所述导轨（1）地固定在地面（4）上，所述齿轮（312）与齿条（313）啮合；在所述单体工件装载装置（3）上设置有定位机构，所述定位机构包括设置在所述底座（31）底部的定位孔（31a）和设置在地面（4）上与所述定位孔（31a）相配合的定位销（314），所述定位销（314）通过伸缩元件Ⅲ（315）可垂直升降地安装在地面（4）上。

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