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申请/专利权人：上海晶维材料科技有限公司
摘要：本发明公开了一种无源真空维持合金的制备方法及其应用，材料合金配方如下：合金配方的主体元素为52wt％‑63wt％，Y为5wt％‑30wt％，Mo为18‑22wt％，W为0.1wt％‑5wt％，Re为0.1wt％‑4wt％，所述Hf为0‑1.8wt％，所述Nb为0‑1.8wt％，所述Ni为0.1wt％‑1.8wt％。将纯度为99.5～99.95％的原材料，按上述合金配方进行配料，其原材料分别为Ti、Zr、Y、Mo、W、Re、Hf、Nb、Ni，对配料进行熔炼制得无源真空维持合金的合金靶坯；或者用粉末冶金烧结法制得合金靶坯，将合金靶坯进行机械加工，制得所述2英寸～12英寸的合金靶材。本发明用制备的合金，其比表面高和孔隙度大，源于合金中加入了具有d电子轨道的W、使得合金的吸气平衡压降低，有利于合金的吸气性能，能够有效的维持无源。
主权项：1.一种无源真空维持合金吸气薄膜，其特征在于，所述无源真空维持合金吸气薄膜的配方为：Ti50Y10Mo19W13Re5Hf1Nb1Ni1（wt%）所述无源真空维持合金吸气薄膜的制备方法如下：将纯度为99.95％的混合料混合，混合料按照如下比例进行配料：Ti50Y10Mo19W13Re5Hf1Nb1Ni1（wt%）将所述混合料进行真空电磁感应进行两次熔炼，熔炼时的真空度为1×10-2Pa，制得合金靶坯；对合金靶坯进行机械加工，制得尺寸为4英寸的合金靶材，利用磁控溅射工艺，溅射完成后得到无源真空维持合金吸气薄膜，磁控溅射工艺的参数为：腔体溅射压力为2.1Pa；基体衬底样品为12英寸的晶元，基体衬底样品温度为80℃；溅射功率为110W；合金靶材与基体衬底的距离为55mm。
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百度查询： 上海晶维材料科技有限公司 一种无源真空维持合金的制备方法及其应用
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