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检验半导体样本的系统、方法及非暂时性计算机可读介质 

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申请/专利权人:应用材料以色列公司

摘要:提供了一种方法和一种系统,所述方法和所述系统被配置为:获得半导体样本的图像,所述半导体样本包括:一个或多个阵列,每个阵列包括重复结构元素;以及一个或多个区,每个区至少部分地包围对应阵列并且包括与重复结构元素不同的特征,其中PMC被配置为在半导体样本的运行时扫描期间:在图像的像素强度与提供重复结构元素中的至少一者的信息的参考图像的像素强度之间执行相关分析,以获得相关矩阵;使用相关矩阵来区分与一个或多个阵列相对应的图像的一个或多个第一区域和与一个或多个区相对应的图像的一个或多个第二区域;以及输出提供图像的一个或多个第一区域的信息的数据。

主权项:1.一种包括处理器和存储器电路系统PMC的系统,所述系统被配置为:获得半导体样本的图像,所述半导体样本包括:一个或多个阵列,每个阵列包括重复结构元素;以及一个或多个区,每个区至少部分地包围对应阵列并且包括与所述重复结构元素不同的特征;以及其中所述PMC被配置为在所述半导体样本的运行时扫描期间:在所述图像的像素强度与提供所述重复结构元素中的至少一者的信息的参考图像的像素强度之间执行相关分析,以得到相关矩阵,使用所述相关矩阵来区分与所述一个或多个阵列相对应的所述图像的一个或多个第一区域和与所述一个或多个区相对应的所述图像的一个或多个第二区域,在所述图像的所述一个或多个第一区域的像素强度与提供所述重复结构元素中的至少一者的信息的第二参考图像的像素强度之间执行相关分析,以得到第二相关矩阵,确定与满足振幅标准的所述第二相关矩阵的值相对应的所述图像的所述一个或多个第一区域的子区域,至少基于在所述图像的所述一个或多个第一区域中的所述子区域的位置和提供在所述阵列中的所述重复结构元素的预期位置的信息的数据来确定在所述图像的所述一个或多个第一区域与所述阵列之间的形变图,以及基于所述形变图来生成校正图像。

全文数据:

权利要求:

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