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申请/专利权人：环晟光伏(江苏)有限公司
摘要：本发明公开了用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液、使用方法和应用，其中，用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液中包括HF、水、HCl、氧化剂和碱抛添加剂。本申请刻蚀液通过刻蚀液中各组分的协同作用，可以在保证硅片正面不被刻蚀液影响的同时，即便硅片边缘掺杂氮化硅、氮氧化硅或者未完全氧化导致硼浓度高时，也能够对硅片侧面和背面进行有效刻蚀，提高硅片的良率和效率。
主权项：1.一种用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液，其特征在于，以水为溶剂，其中各组分的浓度如下：
全文数据：
权利要求：
百度查询： 环晟光伏(江苏)有限公司 用于硅片硼硅玻璃层的刻蚀液、使用方法和应用
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