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飞行时间直方图超分辨率形状拟合 

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申请/专利权人:意法半导体国际公司

摘要:本公开涉及飞行时间直方图超分辨率形状拟合。使用飞行时间ToF测距系统来进行测距的方法包括:通过处理器,接收由ToF测距系统的ToF成像器生成的直方图,其中ToF成像器被配置为传输用于测距目的的光脉冲;在直方图中找到脉冲区域的上升沿,其中脉冲区域对应于从目标反射的光脉冲;通过在上升沿与预先存储的高分辨率上升沿之间执行拟合过程来微调上升沿的位置;以及在微调上升沿的位置之后,通过向上升沿的距离添加预定偏移来计算目标距离的估计。

主权项:1.一种使用飞行时间ToF测距系统进行测距的方法,所述方法包括:通过处理器接收由所述ToF测距系统的ToF成像器生成的直方图,其中所述ToF成像器被配置为发射用于测距目的的光脉冲;在所述直方图中找到脉冲区域的上升沿,其中所述脉冲区域与从目标反射的光脉冲相对应;通过在所述上升沿与预先存储的高分辨率上升沿之间执行拟合过程来微调所述上升沿的位置;以及在微调所述上升沿的所述位置之后,通过将预定偏移添加到所述上升沿的距离来计算所述目标的距离的估计。

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