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申请/专利权人：立潮半导体科技(江苏无锡)有限公司
摘要：本实用新型揭示了用于提升PECVD镀膜均匀性装置，包括沉积装置本体，所述沉积装置本体的两侧壁内侧固定连接有一对连接块，一对所述连接块内均开设有第一滑槽，所述第一滑槽内滑动连接有滑块，所述滑块远离第一滑槽的一侧固定连接有放置框，所述放置框的两侧壁之间固定连接有分隔板，所述分隔板上开设有多个通孔，多个所述通孔内均安装有吸嘴。本实用新型通过在放置板上设置多个吸嘴，通过吸嘴对产品进行固定，然后将放置板移动至沉积腔室内，由于产品的上表面没有吸嘴，因此通过吸嘴的固定不会影响对产品表面的镀膜，提高了产品在沉积腔室内镀膜的均匀性，并且产品在移动时固定于吸嘴上避免了与沉积装置发生碰撞。
主权项：1.用于提升PECVD镀膜均匀性装置，包括沉积装置本体，其特征在于，所述沉积装置本体的两侧壁内侧固定连接有一对连接块，一对所述连接块内均开设有第一滑槽，所述第一滑槽内滑动连接有滑块，所述滑块远离第一滑槽的一侧固定连接有放置框，所述放置框的两侧壁之间固定连接有分隔板，所述分隔板上开设有多个通孔，多个所述通孔内均安装有吸嘴，所述沉积装置本体的上侧壁板内安装有第一电极，所述沉积装置本体的下侧壁板上安装有第二电极。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 立潮半导体科技(江苏无锡)有限公司 用于提升PECVD镀膜均匀性装置
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