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申请/专利权人：光科芯图(北京)科技有限公司
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质。本发明提供的一种全息掩模信息生成方法，一种全息掩模信息生成方法，包括：获取晶圆表面的初始强度信息，根据初始强度信息获取晶圆表面的随机相位信息；将初始强度信息和随机相位信息进行模拟传播处理和离散化处理以获得离散化相位信息；受离散化相位信息调制后的入射光进行滤波处理后传播到晶圆表面，并获得晶圆表面的实际强度信息；基于实际强度信息和初始强度信息获得梯度值；判断梯度值是否小于或等于预设值，若是，则基于离散化相位信息和预设振幅值输出全息掩模信息。解决了全息掩模在光刻过程中存在全息散斑的问题。
主权项：1.一种全息掩模信息生成方法，其特征在于，包括：获取晶圆表面的初始强度信息，根据初始强度信息获取晶圆表面的随机相位信息；将初始强度信息和随机相位信息进行模拟传播处理和离散化处理以获得离散化相位信息；受离散化相位信息调制后的入射光进行滤波处理后传播到晶圆表面，并获得晶圆表面的实际强度信息；基于实际强度信息和初始强度信息获得梯度值；判断梯度值是否小于或等于预设值；若是，则基于离散化相位信息和预设振幅值输出全息掩模信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 光科芯图(北京)科技有限公司 一种全息掩模信息生成方法、装置、曝光设备及计算机可读存储介质
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