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一种基于光致变色效应的格栅自对准聚焦纹影系统 

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申请/专利权人:中山大学;中山大学·深圳

摘要:本发明涉及纹影测量技术领域,特别涉及一种基于光致变色效应的格栅自对准聚焦纹影系统,包括第一聚焦光源装置、待测流场平面、第二聚焦光源装置、分束镜、光致变色玻璃和成像装置;光致变色玻璃与第一格栅相对于第一聚焦透镜共轭布置,光致变色玻璃与第二格栅相对于第二聚焦透镜共轭布置;待测流场平面与成像装置相对于第一聚焦透镜共轭布置,利用光致变色玻璃的光致变色特性,无需曝光底片或者进行图像软件缩放就可以生成与第二格栅互补的截止格栅,生成的截止格栅与第二格栅天然对准且截止格栅与第一格栅共轭对准,完全省去了截止格栅的制作过程,消除了常规数字投影系统中格栅创建对于相机坐标与显示器坐标间的精确映射要求。

主权项:1.一种基于光致变色效应的格栅自对准聚焦纹影系统,其特征在于,包括第一聚焦光源装置、待测流场平面、第二聚焦光源装置、分束镜、光致变色玻璃和成像装置;所述第一聚焦光源装置包括第一光源、第一聚焦透镜和第一格栅,沿所述第一光源的光路上,所述第一格栅、所述待测流场平面、所述第一聚焦透镜、所述分束镜、所述光致变色玻璃和所述成像装置依次布置,所述第一光源用于流场成像;所述第二聚焦光源装置包括第二光源、第二聚焦透镜和第二格栅,沿所述第二光源的光路上,所述第二格栅、所述第二聚焦透镜、所述分束镜、所述光致变色玻璃和成像装置依次布置,所述第二光源用于使所述光致变色玻璃变色以形成截止格栅,所述截止格栅用于阻挡所述第一光源的部分光线通过;所述分束镜用于将所述第一光源和所述第二光源重合照射于所述光致变色玻璃上;所述光致变色玻璃与所述第一格栅相对于所述第一聚焦透镜共轭布置,所述光致变色玻璃与所述第二格栅相对于所述第二聚焦透镜共轭布置;所述待测流场平面与所述成像装置的成像面相对于所述第一聚焦透镜共轭布置。

全文数据:

权利要求:

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