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申请/专利权人：山东有研艾斯半导体材料有限公司
摘要：本发明公开了一种直拉单晶炉的管道清洁方法，属于直拉单晶炉清洁领域。具体地，在单晶炉下炉室上端设置配备有真空压力表的不锈钢炉盖，该不锈钢炉盖可拆卸地与下炉室密封连接；在单晶炉管道连接真空泵的一端附近增设快速放气阀，该快速放气阀通过电动控制对处于负压状态的密闭空间进行快速进气；在单晶拉制结束后，将不锈钢炉盖与下炉室密封连接后，开启真空泵将下炉室内压强抽至压力表示数为‑0.1MPa；关闭真空泵及真空泵阀门，保压10min后若下炉室内压力表示数基本不变，开启快速放气阀，使外界空气发生迅速倒灌，可以将管道中不易清理的位置处堆积的氧化物粉尘通过气流裹挟到下炉室中，只需清理下炉室及管道端口即可将管道内粉尘清理干净。
主权项：1.一种直拉单晶炉的管道清洁方法，其特征在于，在单晶炉下炉室（1）上端设置配备有真空压力表（3）的不锈钢炉盖（2），该不锈钢炉盖（2）可拆卸地与单晶炉下炉室（1）密封连接；在单晶炉管道连接真空泵的一端附近增设快速放气阀（4），该快速放气阀（4）通过电动控制装置（5）对处于负压状态的密闭空间进行快速进气；在单晶拉制结束后，将不锈钢炉盖（2）与单晶炉下炉室（1）密封连接后，按以下步骤进行管道清洁：步骤1：开启真空泵将单晶炉下炉室（1）内压强抽至压力表示数为-0.1MPa；关闭真空泵及真空泵阀门，保压10min后若单晶炉下炉室（1）内压力表示数基本不变，开启快速放气阀（4），使外界空气发生迅速倒灌，至压力表示数为0；步骤2：打开不锈钢炉盖（2），使用清洁工具对单晶炉下炉室（1）堆积的粉尘及管道口附着的粉尘进行清理；步骤3：重复以上步骤1、步骤2。
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权利要求：
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