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申请/专利权人：ASML控股股份有限公司
摘要：描述了用于减少光刻系统中夹持结构的夹持面上的粒子污染物的方法和系统。诸如清洁用掩模版之类的衬底被压靠在夹持面上。在夹持发生之前或之后，所述衬底与所述夹持面之间建立温差，以促使粒子从所述夹持面转移到所述衬底。
主权项：1.一种用于减少位于光刻系统中的夹持结构的夹持面上的粒子污染物的设备，包括：清洁用基底，所述清洁用基底与所述夹持面相对定位，其中，所述夹持结构被配置成固定所述清洁用基底；和温度控制单元，所述温度控制单元与所述清洁用基底和所述夹持结构中的一个热连通，其中，所述温度控制单元与所述清洁用基底热连通，并且所述设备还包括与所述夹持结构热连通的第二温度控制单元，并且所述温度控制单元和所述第二温度控制单元二者都被配置成在所述清洁用基底和所述夹持结构之间引发温差，以将位于所述夹持面的顶部上的所述粒子污染物吸引到所述清洁用基底的底部上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML控股股份有限公司 用于在光刻设备中原位去除粒子的设备和方法
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