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申请/专利权人：浙江奥首材料科技有限公司
摘要：本发明提供一种显示面板bottom‑ITO蚀刻液、其制备方法及应用，所述显示面板bottom‑ITO蚀刻液包括重量配比如下的各组分：两种或两种以上有机羧酸的混合物2‑10份；含氨基的芳烃化合物1‑5份；含羧基的芳烃化合物0.5‑3份；添加剂1‑5份；超纯水30‑50份；添加剂为含有羟基的苯酚类化合物。本发明还公开了显示面板bottom‑ITO蚀刻液的制备方法。本发明显示面板bottom‑ITO蚀刻液能避免SnO2颗粒残留和Ag析出，对于ITO有稳定的刻蚀速率，对于绝缘层与光刻胶均无损伤，可在OLED像素电极制造过程中使用，尤其适用于ITOAgITO三步刻蚀中的bottom‑ITO层蚀刻。
主权项：1.一种显示面板bottom-ITO蚀刻液，其特征在于，包括重量配比如下的各组分： 所述添加剂为含有羟基的苯酚类化合物。
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权利要求：
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