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申请/专利权人：浙江日久新材料科技有限公司
摘要：本发明公开了一种HUD反光膜，其包括基材、第一涂布层、第二涂布层、打底层、镍铬层、混合靶SiO2层和AF层。基材具有相对设置的第一表面和第二表面。第一涂布层，涂布在所述基材的第一表面；第二涂布层涂布在所述基材的第二表面；打底层磁控溅射在所述第一涂布层的表面；镍铬层磁控溅射在所述打底层的表面；混合靶SiO2层磁控溅射在所述镍铬层的表面；AF层湿法涂布在所述混合靶SiO2层的表面；其中，所述HUD反光膜被构成使得P光反射率介于20％‑35％，S光反射率介于10％‑20％，透过率介于22％‑32％。本发明的HUD反光膜采用上述层结构，结构更为简单，有助于提高生产效率，具有较好的光学性能。另外，本发明的HUD反光膜具有更好的耐候性，更好的附着力，能适应不同的使用环境。
主权项：1.一种HUD反光膜，其特征在于，包括：基材，具有相对设置的第一表面和第二表面；第一涂布层，涂布在所述基材的第一表面；第二涂布层，涂布在所述基材的第二表面；打底层，磁控溅射在所述第一涂布层的表面；镍铬层，磁控溅射在所述打底层的表面；混合靶SiO2层，磁控溅射在所述镍铬层的表面；和AF层，湿法涂布在所述混合靶SiO2层的表面；其中，所述HUD反光膜被构成使得P光反射率介于20％-35％，S光反射率介于10％-20％，透过率介于22％-32％。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江日久新材料科技有限公司 HUD反光膜
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