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一种集成双多功能槽栅的超结RC-LIGBT器件 

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申请/专利权人:重庆邮电大学

摘要:本发明涉及一种集成双多功能槽栅的超结RC‑LIGBT器件,属于半导体功率器件领域,包括LIGBT栅极与集电极区域自适应槽栅以及P型漂移区。该器件在正向导通时,集电极区域自适应槽栅开启,集电极nMOS向漂移区内注入电子,通过控制电子注入效率抑制snapback效应。该器件在反向导通时LIGBT栅极与集电极区域自适应槽栅同时作用,降低P型漂移区中势垒形成电子通路进行反向导通。在器件关断时,发射极区域pMOS开启抽取空穴,集电极区域nMOS开启抽取电子,实现器件的快速关断。本发明优化了器件的正向导通特性并且抑制了snapback现象,具有反向导通能力,优化了器件的关断损耗与导通电压之间的折中关系。

主权项:1.一种集成双多功能槽栅的超结RC-LIGBT器件,其特征在于:包括衬底13、介质隔离层12、N型漂移区4、自偏置pMOS与自偏置nMOS槽栅3、自适应槽栅7、CS载流子存储层10和P型漂移区11;所述介质隔离层12位于所述衬底13上方;所述P型漂移区11位于N型漂移区4与CS载流子存储层10下方;所述CS载流子存储层10上方为P-well9,右侧为槽栅3,下方为P型漂移区11;所述P-collector区6、自适应槽栅7与N-collector区8构成集电极。

全文数据:

权利要求:

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