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一种石英坩埚及提高石英坩埚内表面粗糙度的方法 

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申请/专利权人:内蒙古中环晶体材料有限公司

摘要:本发明提供一种石英坩埚及提高石英坩埚内表面粗糙度的方法,包括:坩埚主体,所述坩埚主体包括坩埚侧壁以及坩埚底,所述坩埚底包括底部以及圆弧过渡部,所述圆弧过渡部沿所述底部周向设置有一周;环绕所述圆弧过渡部一周设置有所述侧壁,所述坩埚侧壁的内表面最外层设置有被磨削层,所述被磨削层的厚度为0.01‑1mm。本发明的有益效果是采用上述处理方案,可以在石英坩埚完成成品制造后进行处理,仅增加一项处理工步即达成成对坩埚内壁微颗粒的去除效果,无需进行熔制设备的改造或更改熔制工艺,可以降低改造成本,加快量产进度。在不对传统制埚工艺进行调整的前提下、创新性增加没表面除杂工艺,避免坩埚内壁未融石英微颗粒在使用过程中的脱落风险。

主权项:1.一种石英坩埚,其特征在于,包括:坩埚主体,所述坩埚主体包括坩埚侧壁以及坩埚底,所述坩埚底包括底部以及圆弧过渡部,所述圆弧过渡部沿所述底部周向设置有一周;环绕所述圆弧过渡部一周设置有所述侧壁,所述坩埚侧壁的内表面最外层设置有被磨削层,所述被磨削层的厚度为0.01-1mm。

全文数据:

权利要求:

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