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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：一种示例性方法包括：在使用半导体处理装置进行的半导体制作工艺期间捕获半导体处理装置的腔室的视图的第一图像，半导体处理装置包括被配置成对以完整帘幕轮廓进行流动的液体进行分配的液体分配组件。方法包括确定第一图像的帘幕轮廓分类。帘幕轮廓分类中的一帘幕轮廓分类指示：第一值，指示图像展示出液体以完整帘幕轮廓进行流动；或第二值，指示图像未展示出液体以完整帘幕轮廓进行流动。方法包括基于第一图像的次序及第一图像的帘幕轮廓分类确定多个图像群组。方法包括基于所述多个群组判断半导体制作工艺是否与潜在处理错误相关联。本方法提高判断的准确度。
主权项：1.一种用于侦测半导体处理错误的方法，包括：在使用半导体处理装置进行的半导体制作工艺期间，捕获所述半导体处理装置的腔室的视图的多个第一图像，所述半导体处理装置包括液体分配组件，所述液体分配组件被配置成对以完整帘幕轮廓进行流动的液体进行分配；确定所述多个第一图像的多个第一帘幕轮廓分类，其中所述多个第一帘幕轮廓分类中的帘幕轮廓分类指示：第一值，指示图像展示出所述液体以所述完整帘幕轮廓进行流动；或者第二值，指示所述图像未展示出所述液体以所述完整帘幕轮廓进行流动；基于所述多个第一图像的次序及所述多个第一图像的所述多个第一帘幕轮廓分类来确定多个图像群组；以及基于所述多个图像群组来判断所述半导体制作工艺是否与潜在处理错误相关联。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 用于侦测半导体处理错误的方法
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