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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供能够改善图案形成时的分辨性，且得到LER及图案忠实性良好的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明为一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：A光酸产生剂，由下式A表示的鎓盐构成；及B基础聚合物，包含含有下式B1表示的重复单元的聚合物。
主权项：1.一种化学增幅负型抗蚀剂组成物，含有：A光酸产生剂，由下式A表示的鎓盐构成；及B基础聚合物，包含含有下式B1表示的重复单元的聚合物； 式中，n1及n2各自独立地为0～2的整数；n3于n1＝0时为1≤n3≤5的整数，于n1＝1时为1≤n3≤7的整数，于n1＝2时为1≤n3≤9的整数；n4于n2＝0时为0≤n4≤5的整数，于n2＝1时为0≤n4≤7的整数，于n2＝2时为0≤n4≤9的整数；L为单键、醚键、酯键、磺酸酯键、酰胺键、碳酸酯键或氨基甲酸酯键；R1各自独立地为碘原子、或者亦可含有杂原子的分支状或环状的碳数3～20的烃基，且至少1个R1键结于与L所键结的碳原子相邻的碳原子；又，n3为2以上时，多个R1亦可彼此键结并与它们所键结的碳原子一起形成环；R2为亦可含有杂原子的碳数1～20的烃基；又，n4为2以上时，多个R2亦可彼此键结并与它们所键结的碳原子一起形成环；W1为与相邻的芳香环的碳原子C1及C2一起形成的碳数3～15的环，且形成该环的碳原子的一部分亦可被含有杂原子的基团取代；W2为与相邻的芳香环的碳原子C3及C4一起形成的碳数3～15的环，且形成该环的碳原子的一部分亦可被含有杂原子的基团取代；Z+为鎓阳离子； 式中，a1为0或1；a2为0～2的整数；a3为符合0≤a3≤5+2a2-a4的整数；a4为1～3的整数；RA为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R11为卤素原子、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基或亦可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基；A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，且该饱和亚烃基的-CH2-亦可被-O-取代。
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权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法
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