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申请/专利权人：随州鑫星新材料有限公司
摘要：本实用新型涉及一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括底座、固定连接于底座顶部一侧的反应釜、固定连接于底座顶部另一侧的精馏塔和固定安装于精馏塔正面的控制器，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的清理机构，所述反应釜的外部设置有延伸至其内部的过滤机构，所述清理机构包括固定安装于反应釜外部的伺服电机，所述伺服电机的输出轴上固定连接有延伸至反应釜内部的转动轴。该八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，通过控制器启动伺服电机工作，转动轴带动横杆与竖杆旋转，便于对反应釜内部的八甲基环四硅氧烷与萃取剂和吸附剂进行搅拌混合处理，便于对反应釜内壁上的残留物进行清理，达到了便于清理的优点。
主权项：1.一种八甲基环四硅氧烷中金属杂质的去除设备，包括底座1、固定连接于底座1顶部一侧的反应釜2、固定连接于底座1顶部另一侧的精馏塔3和固定安装于精馏塔3正面的控制器9，其特征在于：所述反应釜2的外部设置有延伸至其内部的清理机构4，所述反应釜2的外部设置有延伸至其内部的过滤机构5；所述清理机构4包括固定安装于反应釜2外部的伺服电机41，所述伺服电机41的输出轴上固定连接有延伸至反应釜2内部的转动轴42，所述转动轴42的外部固定连接有数量为两个的横杆43，两个所述横杆43之间固定连接有数量为两个的竖杆44，两个所述横杆43靠近反应釜2的一侧固定连接有刮板45；所述过滤机构5包括固定安装于反应釜2外部的吸泵51和过滤箱52，所述过滤箱52的底部固定连通有延伸至反应釜2内部的连接管53，所述过滤箱52的内部滑动连接有数量为两个的熔喷非织造基材54，所述吸泵51的输出端上固定连接有延伸至反应釜2内部的输送管55。
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权利要求：
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